특허청이 미국 특허청과의 특허 공동심사(CSP) 신청 요건을 완화, 출원인의 불편 사항을 대폭 개선했다.
특허청은 지난 1일 미국 특허청과 '특허 공동심사(CSP) 2차 시범 사업'을 시작하면서 신청 요건이 엄격하고 일부 절차가 불합리하다는 의견을 반영, 양국 출원서에 기재된 모든 발명이 같아야 하는 요건을 대표 발명만 동일하도록 완화했다고 9일 밝혔다.
양국이 CSP로 공유한 선행 기술 정보라 하더라도 미국에 중복 제출해야 하는 절차도 없앴다. 앞으로는 국내 기업이 다른 국가에서도 편리하게 특허를 확보할 수 있도록 중국 등 주요국으로 CSP 사업을 확대할 계획이다.
CSP는 국내와 미국에 동일한 발명이 출원됐을 때 특허 여부 판단에 필요한 선행 기술 정보를 양국 심사관이 공유하고, 다른 출원 건보다 빠르게 심사해 주는 제도다. 2015년부터 지난 8월 말까지 2년 동안 1차 시범 사업을 진행했다.
대전=신선미기자 smshin@etnews.com