1. 한양기공-가스공급장치 "VMB GG500"
반도체제조용 장비업체인 한양기공(대표 김재욱)은 이번에 가스공급 조절시스템 성능을 최적화시켜 가스사용량을 종전의 절반이하로 줄여주고 한번에8개의 사용지점에 UHP가스를 공급해줄 수 있는 고성능 가스공급장치 "VMB GG5000"을 선보인다.
이 제품은 장비와 배관라인을 짧게 하며 에어핸딩과 소요공간을 감소시키고저장.사용되는 실린더 수를 사용자 요구대로 줄일 수 있어 가격절감 효과가뛰어난 게 특징이다. 또 시작과 종료, 퍼지.배설작업은 컨트롤러와 이중분리구조 밸브로 안전하게 운영되며 라인퍼지가 되는 동안 다른 가스라인은가스 흐름이 중단없이 가동될 수 있고 배관내 부품조립과 분리가 기존제품보다빠르고 편리하다.
한양기공은 이 VMB와 함께 이 제품을 효과적으로 지원할 수 있는 가스캐비닛시스템을 선보였는데 간단한 키패드, 메뉴구동방식의 소프트웨어와 9인치모니터로 구성돼 시스템 상태.경보조건.메뉴선택을 한꺼번에 볼 수 있고 조작시 에러 가능성을 줄일 수 있다.
2. 테러다인-메모리 테스트시스템 "J995"
테스트장비업체인 테러다인(대표 장홍조)은 웨이퍼상태에서 소자의 전기적기능의 양.불량을 판별해주는 메모리 테스트시스템 "J995"와 함께 시험중에소자내 불량 셀(cell.비트의 상태를 나타내는 최소단위)의 형태를 분석, 여분의 셀로 교체.수리해주는 "RA/PLUS" 옵션제품을 선보였다.
이 RA 옵션툴은 정확한 패턴분석으로 기존 분석방법인 대체수리 및 전체수리의 약점인 낮은 수율과 분석시간의 지연 등을 보완해 향후 64M.2백56M 및1기가 D램제품에 대응할 수 있는 제품으로 평가받고 있다.
메모리테스트시스템은 전공정의 수율을 가늠해주는 최종공정 시험생산장비로소자업체들이 이 시스템을 사용할 경우 전체수리방법보다 평균 25% 이상빠른 분석이 가능해 집적도가 높은 64MD램 이상 테스트공정에서의 수율향상을위한 필수제품으로 꼽히고 있다.
테러다인은 RA/PLUS 옵션을 장착한 "J995"메모리테스트장비를 3월부터 본격공급하는 한편 지속적으로 RA 옵션장치를 업그레이드, 소자업체들의 생산성향상을 유도해나갈 방침이다.
3. 케이씨텍-드라이 진공펌프
드라이펌프는 한쌍의 로터(ROTOR)가 비접촉 동기회전하여 프로세스 챔버를청정진공 상태로 유지시켜주는 역할을 하는데 이번에 선보인 제품은 일 가시야마사의 스크루타입 드라이 진공펌프를 부분 국산화한 제품이다.
이 제품은 단순한 내부 배관구조로 채용 부품수를 크게 줄였으며 내식성재료를 사용하여 유지.보수가 쉬운 것이 특장이다. 또 특정 프로세스에 관계없이 전공정에 사용이 가능하며 3중 실(SEAL) 구조로 흡입압력이 높고 안정구조로 오일이 새는 것을 방지할 수 있다.
케이씨텍은 안성공장에 연재 2천평 규모의 공장부지를 마련, 제품의 국산화에 박차를 가해 국산화율을 50% 이상으로 끌어올리는 한편 기존 제품보다단순.경량화시키고 가격을 낮춘 경제적인 제품개발에도 적극 나설 계획이다.
4. 한국DNS-양면 스핀 스크러버
반도체 제조장비 전문업체인 한국DNS(대표 김광교)는 최근 자체 개발에성공한 양면 스핀 스크러버 "SS-W80A"를 선보인다.
이 제품은 웨이퍼에 패턴을 형성시키는 사진공정 및 막 형성공정(Diffusion)중 웨이퍼 표면에 발생하는 먼지와 불순물을 브러시와 초음파 세정노즐을통해 제거하는 설비로 기존 표면 스크러버에 반전 유닛 및 이면 스크러버가첨부된 것이 특징이다.
이 양면 스크러버는 메인컴퓨터에 의한 중앙집중 제어방식에 따른 각 유닛서브컨트롤러의 제어에 의해 연속적으로 웨이퍼를 처리하며 건조기능이 함께작동하고 1.5MHz의 초음파와 순수(DI)를 이용한 "D-소닉 세정"도 가능하다.
이 장치는 또 6인치와 8인치 웨이퍼에 모두 적용 가능하고 표면 및 뒷면의세정 최대 회전수는 각각 6천rpm과 4천rpm에 이르며 작동 효율성 제고를 겨냥, 멀티 웨이퍼 반송 암(ARM)을 채용하고 있다.
아울러 이 제품은 이면 파티클 발생을 배제하기 위해 1H 암 2개를 하나의세트로 구성했으며 반전된 웨이퍼를 세정해주는 "이면 스크러버 유닛"과 웨이퍼의 로딩/언로딩시 별도의 동작을 수행하는 "인덱서-C" 등으로 구성됐다.
5. 성원에드워드-iQ 드라이 펌프
반도체생산에 필요한 각종 진공기기 전문업체인 성원에드워드(대표 김중조)는 마이크로 프로세서에 의해 제어되고 중앙 모니터링 기능까지 갖춘 지능형"iQ드라이 펌프 패키지"와 가스 배기장치 스크러버인 가스 리액터 칼럼(Gas Reactor Column) 및 PFC가스를 처리하는 단열식 버너형 서멀 프로세스 유닛(Thermal Process Unit)을 출품했다.
이 회사의 "iQ드라이 펌프"는 사용자가 펌프의 운전상태를 확인하면서 제어할 수 있도록 방향설정 기능을 갖춘 제품으로서 사용중 이상이 감지되면경고 메시지 및 자기 진단과 동시에 해결 방법을 제시, 펌프가 가동중에 멈추는 것을 사전 예방하는 것이 특징이다.
iQ펌프와 함께 선보인 GRC제품은 진공펌프의 배기장치에서 발생하는유독가스를 열분해 및 화학반응을 통해 불활성염으로 전환시키는 핵심장비로한 종류의 카트리지를 가지고 반도체 전공정에 적용이 가능할뿐 아니라 사용된 카트리지는 일반 폐기물로 처리할 수 있는 환경제품으로 평가받고 있다.
현재 국내 반도체관련 진공기기 수요의 70% 이상을 점유하고 있는 이 회사는생산능력 확대를 위해 지난해부터 추진한 천안공단내 제2공장 신설을 이달중마무리하고 내달부터 본격 가동에 들어갈 계획이다.
6. 신성엔지니어링-클린룸
클린룸 전문업체인 신성엔지니어링(대표 이완근)은 이번에 "에어 샤워(AirShower)"를 비롯해 "클린 오븐(Clean Oven)", "이오나이저시스템(Ionizer System"과 "팬 필터 유닛(Fan Filter Unit)" 등 다양한 클린 룸 관련장치를 선보인다.
에어 샤워는 클린룸이나 청정작업실에 입실시 외부로부터 오염물질이 유입되는 것을 방지키 위해 인체에 부착된 분진 또는 미생물류를 고속의 청정공기로 세정제거, 청정실 내부를 "클래스 100" 수준으로 유지할 수 있도록 하는장치다.
단상.삼상.슬림형 등 모두 3개의 모델로 선보인 "팬 필터 유닛"은 클래스1~100의 고청도를 유지하고 다양한 기능.편리성 등을 갖춰 그간 필리핀.태국.싱가포르.말레이시아 등에 약 4만대를 수출, 국제적인 품질 및 기술력을인정받은 제품이다.
신성엔지니어링은 또 1입방피트에 0.1~0.5미크론 크기의 먼지 입자 10개가허용되는 청정도 "클래스 10"의 환경에서 고온 열처리 시험이 가능한 클린오븐을 출시했으며 미국 이온시스템사와 제휴해 판매중인 고효율 이온 발생기능의 클린룸용 이오나이저 시스템 "닐스타"의 국내 생산도 적극 추진할 계획이다.
7. 한국베리안-이온 주입기
한국베리안(대표 서성기)은 이번 전시회에 반도체 제조공정에서 획기적인발전을 이루었다고 평가받는 고전류 이온주입기 시스템 "VIISion 80/200"을 선보인다.
인간공학적 설계와 소형화에 초점을 맞추고 고수율 및 신뢰성 확보를 겨냥해개발한 이 제품은 소스 출력이 빔라인과 "엔드 스테이션"을 통해 조화를이루도록 했고 웨이퍼들을 프론트 사이드의 접촉없이 부드럽게 웨이퍼 사이트로 옮겨 안전하게 고정시킬 수 있어 웨이퍼 위치의 조절과 웨이퍼 뒷면의오염을 방지할 수 있다. 이 이온 주입기는 5E11~2E16/㎝의 넓은 범위내에서작동하며 2080Kev(VIISion 80)이나 2~200Kev(VIISion 200)의 에너지 범위는 소자업체들에게 프로세스의 유연성과 생산성 향상에 따른 원가절감효과를 동시에 가져다 줄 수 있다.
특히 듀얼필라멘트를 통해 빔의 플라즈마 현상을 최대한 억제시킨 반면,소스생성시간은 극대화했으며 혁신적인 자동 조절기능으로 반사방지는 물론일정한 양의 조도조절도 가능하다.
이와함께 챔버와 디스크는 시스템의 셧다운 없이 자동으로 1회에서 10회까지세정되며 동시에 일반적인 유지보수 점검을 할 수 있어 시스템 가동시간을최대화할 수 있는 점이 특징이다.
8. 국제일렉트릭코리아-수직형 디퓨전 CVD시스템
국제일렉트릭코리아(대표 이길재)는 전공정 중에 산화막 등을 생성시켜 소자의 전기적 특성 주입을 위한 박리 및 균열공정을 수행해주는 수직형 막확산장치 "DD-823V"를 출품했다.
이 제품은 최대 8인치 웨이퍼 1백50장을 일괄처리할 수 있으며 고속.저진동.고신뢰성의 카세트 및 웨이퍼 이동식의 메커니즘을 갖고 있다. 또 카세트를주고받는 기능을 자동화, 생산라인의 무인화가 가능하며 간격조정 등의 옵션기능으로 사용자들의 다양한 요구에 대응할 수 있도록 설계됐다.
카세트 스테이지 전면에 프론트 셔터(SHUTTER)를 채용해 장비내의유압을 안정시켰으며 석영반응관의 탈착이 가능해 자가세정에 따른 유지보수가용이한 것이 특징이다.
국제일렉트릭은 시스템의 자동화.저파티클화.고균일성막 등이 특징인 이제품에 이어 향후 64MD램 이상 고집적 제품을 겨냥, LOAD/LOC구조에의한 얇은 산화막과 막의 두께 제어가 가능한 업그레이드 제품을 97년에 생산할 예정이다.
이를 위해 유닛부품.석영부품을 국산화한데 이어 가스시스템.패널.LOCK등 고도의 가공기술이 요구되는 부품들의 국산화도 추진할 계획이다.
9. 램리서치코리아-고밀도 플라즈마 CVD장비
램리서치코리아(대표 장명식)는 고밀도 플라즈마시스템을 이용해 증착과식각을 동시에 진행할 수 있는 고성능 CVD시스템 "DSM9900"을 선보인다.
이 제품은 기존장비에 비해 플라즈마에 의한 웨이퍼 손상을 극소화, 회로설계범위를 보다 넓힐 수 있어 소자업체의 생산성을 제고시켜주며 웨이퍼 이동횟수를 줄여 파티클 오염 가능성을 극소화시킨 것이 특징이다.
또 고밀도 전자가속공명(ECR)형성챔버와 반응챔버 등 2개의 공정챔버로 구성돼 있다.
이와 함께 공정시 웨이퍼 균일성과 유전체 특성을 극대화시키기 위해 웨이퍼의 크기를 비례축소하는 2개의 보조 마그네트를 갖고 있어 다이(DIE)크기의 증가없이 다단계 메탈공법을 통해 차세대 0.35~0.25
10. 어플라이드머티리얼즈코리아(AMK)-3백mm(12인치) 컨셉 시스템
어플라이드머티리얼즈코리아(대표 이영일)는 이번에 처음으로 3백mm(12인치)웨이퍼 가공용 프로토 타입의 컨셉(Concept)시스템을 선보이는 한편 엔듀라VHP CVD장비와 3개의 신형 에치챔버를 중점 소개한다. 국내에는 처음 선보이는 3백mm시스템은 어플라이드머티리얼즈사가 프로토 타입으로 제작한 것으로CVD.PVD.에치챔버를 갖추고 있으며 기존 2백mm시스템보다 웨이퍼 처리영역이2.5배나 넓은 획기적인 제품으로 주목받고 있다.
3백mm시스템과 함께 선보인 Endura PVD시스템은 10억분의 1 수준의 오차,그리고 초고진공 체제로 운영돼 고순도의 스퍼터드필름을 만들어낼 수 있고기존 PVD시스템의 최대결점인 전이 및 스텝 커버리지 불균형 현상을 해소할수있는 특징을 갖고 있다.
오염입자를 최대한 줄인 이 시스템은 높은 신뢰도와 청결도를 유지하는 동시에 초고진공 환경의 까다로운 요구에 대응하기 위해 특별히 개발된 센추라플랫폼을 바탕으로 설계돼 있다. 또 싱글웨이퍼 및 멀티챔버의 독특한 구조로 돼있어 중간진공 및 고진공 공정에서 각각 다른 이송챔버를 사용해 생산효율을 높인 게 특징이다.