16MD램 등 고집적 반도체의 제조시 감광재료로 사용되는 i라인 포토레지스트의 국산대체가 시급한 것으로 지적되고 있다.
최근 관련업계와 반도체산업협회에 따르면 최근들어 반도체 주변산업의 국산화가 가속화되고 있는 것과는 달리 포토레지스트의 국산 사용비중은 94년15%에서 지난해 12%로 줄었으며 올해는 TOK.JSR.스미토모.미쓰비시 등 일본업체들이 80% 이상, 쉬플리 등 미국업체가 8%를 차지하는 등 국내업체의점유율은 10%선으로 위축될 전망이다.
이는 16MD램의 생산확대로 i라인 포토레지스트의 사용비중이 크게 늘고 있으나 국내업체들이 아직 4MD램용으로 주로 쓰이는 g라인 제품의 생산에 그치고있기 때문으로 풀이되고 있다.
실제로 올해 국내 포토레지스트시장은 1억달러를 넘어설 것으로 예상되는가운데 i라인 제품의 비중이 16MD램의 생산확대로 인해 지난해에 50% 수준에서 올해에는 70%이상을 차지할 것으로 보이나 국산채용은 아직까지 거의전무한 실정이다.
이는 훽스트산업과 동진화성 등 국내 포토레지스트 생산업체들이 지난해말i라인 제품개발에 성공, 양산을 추진중이나 수지 및 감광성 화학물질 등 원자재의 국내수급이 여의치 않은데다 공정기술이 미흡해 아직 수요업체인 반도체 3사로부터 품질승인을 받지 못하고 있기 때문으로 보인다.
업계의 한 전문가는 "국내 반도체재료의 국산화율이 평균 40%정도인 것을감안할때 반도체 제조공정에 사용되는 핵심재료인 포토레지스트의 국산화 비중은 너무 뒤져 있다"며 올해부터는 4MD램 생산이 빠르게 줄어들 가능성이높은 점을 감안, 국내 산업경쟁력 강화차원에서 재료업체와 수요업체가 협력해전략적으로 이의 국산화를 서둘러야 한다고 강조했다.
〈김경묵기자〉