특허청, 7월1일부터 의장출원공개제도 시행

다음달 1일부터 의장출원공개제도가 시행됨에 따라 의장도 특허와 실용신안과 마찬가지로 출원의장의 조기보호가 가능하게 된다.

특허청은 의장의 모방방지 및 조기보호를 위해 지난해 4월부터 연구작업및의장법 개정작업을 거쳐 오는 7월1일부터 의장출원공개제도를 시행한다고 27일 밝혔다.

의장출원공개제도란 출원인이 등록사정 이전에 공개신청을 하면 출원내용을의장공개공보에 수록, 일반인들에게 알리는 것으로 이 제도가 도입되면 의장이 등록되기 전이라도 출원된 의장에 대한 타인의 모방 및 도용을 막을수있고 공개된 출원의장에 대한 제3자의 정보제공이 가능해져 심사의 정확성이제고될 수 있을 것으로 기대되고 있다.

특히 이 제도의 시행으로 공개된 의장을 제3자가 침해했을 경우 출원인은그 침해자에 대해 「보상청구권」을 행사할 수 있게 돼 출원인의 권익향상에도움이 될 것으로 보인다.

특허청은 이번 의장출원공개제도는 국제적으로 우리나라가 처음 도입한 것으로 일본의 특허청과 전문가들로부터도 매우 바람직한 제도로 평가받고 있다고 설명했다.

<김성욱 기자>