한, 미 양국은 산업재산권 제도의 상호 이해증진과 불필요한 마찰의 예방을 위해 양국간 「산업재산권 기술협력협의회(IPR)」를 신설하기로 합의했다.
특허청은 24일 미국을 방문 중인 정해주 특허 청장이 최근 브루스 레만 美 특허 청장과 회담을 갖고 지적재산권 보호를 둘러싼 두 나라간 통상마찰을 줄이기 위해 이같은 기구를 만들기로 의견을 모았다고 밝혔다.
이 협의회는 양국 특허청의 산업재산권 심사관 및 전문가들로 구성, 수시로 회의를 열어 두 나라 산업재산권 관련제도에 관한 의견을 교환하고 전문, 기술적 사항에 대한 협력방안을 모색하게 된다.
이 협의회는 또 세계무역기구(WTO), 세계지적재산권기구(WIPO), 아, 태경제협력체(APEC) 등 국제무대에서의 한, 미 공조방안도 논의하게 된다.
미국은 그동안 한국을 지적재산권분야 우선관찰대상국(PWL)으로 지정, 자국의 지적재산권 보호실태를 면밀히 주시하겠다는 입장을 보여왔다.
<김성욱기자>