동우반도체약품(대표 한의섭)이 차세대 반도체 제조에 필수적인 DUV(Deep Ultra Violet)용 포토레지스트를 개발한다.
이 회사는 현재의 i라인용 제품보다 훨씬 짧은 파장의 자외선에도 감응해 회로선폭 0.18㎛ 이하의 극미세 패턴 형성이 가능한 DUV용 포토레지스트의 개발을 올해부터 본격 추진한다고 23일 밝혔다.
이를 위해 동우는 스미토모 등 일본 업체들과의 공동개발을 추진하는 한편 별도의 개발팀을 구성,전북 익산 공장내 연구실에 DUV용 스테퍼 및 에처 등 각종 관련장비를 도입하는 등 향후 3년간 이 분야에 총 1백억원 이상을 투자키로 했다. 또한 DUV용 장비 및 재료가 i라인용 제품을 대체할 차세대 리소그라피 기술로 채택이 확실시 되고 있는 만큼 보급이 본격화될 것으로 예상되는 99년 이전에 관련 제품의 양산체제를 구축할 계획이다.
<주상돈 기자>