지원화학, 불화수소산(HF) 대체 화학물질 개발

화학적 독성에 의한 사용위험과 배기가스 발생에 따른 오염발생에도 불구하고 웨이퍼 및 각종 디스플레이 기판의 불순물 제거를 위해 그동안 전량 수입해 사용돼 왔던 불화수소산(HF)의 대체 화학물질이 국내에서 개발됐다.

화학약품 업체인 지원화학(대표 이기원)은 웨이퍼 및 디스플레이 장치의 성형가공시 산화물 또는 무기물 등의 각종 이물질을 세척하는 과정에서 기존 불산 화학물질보다 세정효과가 훨씬 우수하면서도 사용후 유해가스가 전혀 발생하지 않고 인체접촉에 따른 위험성도 거의 없는 질소이온 및 불소이온을 포함한 무기화합물 세정제인 「GST-300」을 개발했다고 20일 밝혔다.

이 회사가 개발한 「GST-300」은 기존에 사용돼온 불산 화합물과 같은 식각방식이 아닌 박리형태로 이물질들을 세척함으로써 세정시간 단축은 물론 기존 식각에 따른 웨이퍼 및 디스플레이 소자의 부식위험이 거의 없어 정밀제품의 제조에 더욱 유리하다. 또한 PH 5.5의 양산성으로 인체에 무해해 작업환경의 개선은 물론 유해가스와 분진도 거의 발생하지 않아 환경문제 및 산가스 발생으로 인한 2차오염 문제도 해결했다.

이 제품은 지난 연말부터 한국전자 CRT 생산라인에 납품돼 셀제 세정능력 및 불량률 저하면에서 기존 불산 제품보다 훨씬 뛰어나다는 평가를 받고 있고 국내 반도체 업체들에 대한 샘플공급도 협의중이어서 반도체라인에도 본격적으로 공급하게 될 가능성이 높다고 지원측은 설명했다.

그동안 반도체 및 LCD의 세정물질로 주로 사용돼온 불산은 맹독성 화학물질로 작업시 위험부담이 클 뿐만 아니라 작업후에도 각종 유독가스의 발생으로 인해 환경문제를 유발함으로써 G7프로젝트 등 국내외적으로 대체물질의 개발이 지속적으로 추진돼 왔다.

지원화학은 이 새로운 화학물질과 관련 50여건 이상의 국내특허를 출원중이며 하반기에는 국제특허도 출원할 계획이다.

이기원 사장은 『기존 불산을 대체하는 이 물질의 개발로 연간 40억원 이상의 직접적인 수입대체 효과를 거둘 수 있으며 향후 채용이 확산될 경우 기존 반도체 및 LCD 생산라인용 각종 오염방지 시설의 축소로 인한 간접적 파급효과가 엄청날 것』으로 전망했다.

<주상돈 기자>