스퍼터(Sputter)와 에처, 화학적증착장비(CVD), 분자선 에피텍셜 장비 등 폭넓은 제품군을 보유하고 있는 일본 어넬바는 이번 전시회를 통해 자사가 생산하는 주력장비인 「코스모스 시리즈」 중 3백 대응 스퍼터와 각종 진공 컴포넌트 제품들을 선보였다.
특히 이번에 전시한 「I-1201 PVD」는 자사의 2백 웨이퍼 대응 기종과 장비 구조가 통일한 3백 웨이퍼용 스퍼터로 이 장비를 활용하면 2백 웨이퍼를 사용해 개발한 프로세스 기술을 3백 웨이퍼 시대에도 똑같이 적용할 수 있다고 어넬바측은 주장했다. 또한 이 장비는 설치면적도 기존 2백용 장비보다 약 18% 늘어나는데 그쳐 공간 활용을 극대화했다.
이와 함께 어넬바는 저압 원격 스팩 프로세스, 고압 알루미늄 스퍼터 프로세스, 드라이 에칭 장치 등을 출품했으며 각종 차세대용 CVD 프로세스의 개발 상황도 공개했다.