64MD램 이상 고집적 반도체 제조에서부터 DUV(Deep Ultra Violet)용 리소그래피 장비의 양산 라인 채택이 확실시 되고 있는 가운데 최근 이 장비보다 한 단계 하위 기종인 i라인용 스테퍼가 때아닌 호황을 누리고 있어 주목된다.
28일 관련업계에 따르면 64MD램의 본격적인 양산에 힘입어 DUV용 스테퍼가 올해 신규 스테퍼 발주 물량의 60% 이상을 차지할 것이라던 당초 예상과 달리 최근들어 i라인용 스테퍼의 수요가 오히려 크게 늘어나는 기현상이 나타나고 있다.
이에 따라 니콘, ASML, 캐논 등 세계 주요 스테퍼 공급업체들은 DUV용 시장 선점 노력과 함께 i라인용 스테퍼 신제품을 잇따라 출시하는 등 i라인시장에 대한 영업을 대폭 강화하고 나섰다.
이처럼 i라인용 수요가 최근 들어 크게 증가하고 있는 것은 반도체 경기의 불황 여파로 제조 원가 절감의 필요성이 강력히 제기됨에 따라 주요 소자 생산업체들 사이에 초미세(Critical) 공정을 제외한 일반(Noncritical) 공정에는 고가의 첨단 장비 대신 저가의 하급 기종을 사용하는 믹스앤드매치(Mix & Match) 방식 장비 운영이 크게 확대되고 있기 때문으로 풀이된다.
또한 DUV용 장비의 경우 1개 생산 라인을 구성할 수 있는 전체 물량을 한꺼번에 공급받기는 사실상 불가능하며 1대를 공급받는 데만도 길게는 6개월 이상 소요되는 등 DUV 장비의 제품 납기 문제도 i라인용 제품 수요 증가의 한 원인이라고 전문가들은 분석한다.
국내 최대 스테퍼 공급업체인 니콘은 최근의 이러한 현상에 대응, 자사가 양산용으로 공급한 i라인용 스테퍼의 노광 기능을 향상시키는 업그레이드 사업을 대폭 강화하고 나섰다.
이 업그레이드 사업은 0.5미크론급 i라인 스테퍼에 미세화 지원기능 시스템을 추가, 0.35미크론 이하의 노광 공정에까지 대응할 수 있도록 해주는 일종의 장비개조기술이다.
네덜란드 스테퍼업체인 ASML社는 최근 스텝앤드스캔(Step & Scan) 방식의 i라인용 스테퍼인 「PAS 5500/400」 모델을 신규 출시하고 국내 공급업체인 한택을 통해 본격적인 영업에 나섰다. 이 장비는 같은 회로를 한장씩 여러번 찍어내던 기존의 스텝 방식과 달리 복잡한 회로를 하나씩 그려 나가는 스텝앤드스캔 방식을 채택함으로써 0.28미크론 이하의 초미세 회로 공정에 적용 가능하며 시간당 96장의 웨이퍼를 처리하는 초고속 제품이다.
일본 스테퍼 생산업체인 캐논도 최근의 믹스앤드매치 방식 장비 운영에 대비, DUV용 프로세스 툴을 장착할 수 있는 0.35미크론급 i라인용 스테퍼를 본격 출시했다. 이 장비는 기존의 i라인용 제품보다 20% 이상 향상된 성능으로 시간당 1백장 이상의 웨이퍼를 처리할 수 있으며 니콘은 올해 이 장비를 1백50대 이상 전세계에 공급할 예정이다.
<주상돈 기자>