세계 및 국내 반도체 장비 업체들간의 전략적 제휴 움직임이 활발하다.
최근 알려진 장비 업체들간 기술 제휴 움직임의 가장 두드러진 특징은 장비 생산 업체와 모듈 공급 업체들간의 수직 계열식 제휴 사례가 눈에 띄게 늘고 있고 차세대 장비 개발을 위한 기술적 제휴 관계외에도 공동 판매 등과 같은 마케팅 차원의 제휴가 빈번해지고 있다는 점이다.
특히 이러한 제휴 움직임은 화학적기계적연마(CMP), 복합칩 테스터, 트랙, 포토 마스크 등과 같은 최첨단 분야에서 더욱 두드러져 세계 장비 시장의 판도변화는 물론 국내 반도체 장비산업 전반에도 적지 않은 영향을 미칠 것으로 예상된다.
비메모리용 테스터 생산 업체인 미국 LTX와 메모리 테스터 업체인 일본 안도는 최근 LTX측이 개발한 복합칩 테스터 「퓨전」 장비의 생산 및 판매를 위해 전략적 제휴 관계를 맺었다. 이번 제휴에 따라 안도는 LTX측에 일정한 로열티를 지불하는 대신 일본 지역내에서 퓨전 장비의 생산과 판매는 물론 차세대 플랫폼에 대한 제조 기술도 이전받게 된다.
CMP 장비 생산업체인 스트라스바와 웨이퍼 클리닝 장비 업체인 온트랙社는 각자 개발한 CMP 관련 핵심 모듈들을 서로 결합, 웨이퍼 처리 능력이 우수하고 클린룸 차지 면적을 최소화시킨 완전 자동 CMP 장비를 곧 개발, 출시할 예정이다.
세계 최대 반도체용 포토 마스크 생산 업체인 듀폰은 지난달 현대전자와 차세대용 포토 마스크의 개발 및 생산을 위한 전략적 기술 제휴관계를 체결한데 이어 최근 일본의 광학 유리 전문생산 업체인 호야社와도 포토마스크 제조용 포토블랭크 제품의 공동 개발에 합의했다. 이처럼 세계 장비 업체들간의 기술 제휴가 활발히 진행되고 있는 가운데 국내 장비 업체들의 차세대용 제품에 대한 공동 개발 움직임도 점차 가시화되고 있어 주목된다.
반도체 장비 업체인 아펙스와 CTC 관련 소프트웨어 전문업체인 코닉시스템, 그리고 프로세스 모듈 컨트롤러 개발 업체인 에이릭스는 에처, CVD, 스퍼터 등 첨단 반도체 장비에 들어가는 핵심 부품인 클러스터 툴 컨트롤러(CTC: Cluster Tool Controller) 시스템의 공동 개발을 추진중이다.
웨트스테이션의 자체 개발을 추진하는 국내 D사는 협력업체인 B사에 대한 적극적인 기술 및 자금 지원을 통해 웨트스테이션 장비용 주요 부품 개발을 최근 완료했으며 가스 관련 장비업체인 한양기공 또한 부품 가공 전문업체인 진일특수를 통해 가스 공급 장치용 핵심 부품의 개발을 추진중이다.
최근 트랙 장비용 핵심 모듈을 국산화한 실리콘테크는 미국 최대 트랙 장비 생산 업체인 FSI사에 자사 제품을 공급하는 한편 FSI측과 차세대용 트랙 시스템의 공동 개발도 추진키로 했다.
이러한 장비업체들간의 활발한 전략적 제휴 움직임에 대해 장비 업계 한 관계자는 『차세대 반도체 장비 개발에 필요한 첨단 기술의 개발 난이도가 점차 높아지고 이에 따른 연구 개발 및 사업 추진 비용도 갈수록 커짐에 따라 업체 단독으로 이를 수행하기는 현실적으로 힘들기 때문』으로 분석했다.
<주상돈 기자>