미국 듀폰포토마스크(DPI)와 프랑스 연구기관인 LETI가 차세대 리소그래피 레티클(마스크) 제조 평가와 관련한 공동개발 협력계약을 맺었다.
DPI와 LETI는 DPI가 개발하고 제조하는 0.18미크론에서 0.1미크론 이하의 디자인룰을 지원하는 진보된 포토마스크의 성능을 평가·검증하는 데 협력하기로 했다.
양사는 먼저 0.18에서 0.1미크론 리소그래피 기술의 평가에 나서기로 했으며 특히 193nm 옵티컬 리소그래피와 OPC(Optical Proximity Correction), 위상변이마스크(PSM)에 초점을 맞추기로 했다. 이 공동개발 계약에는 DPI와 AMD, 마이크론테크놀로지, 모토롤러가 바이너리, OPC 및 PSM 기술향상을 위해 합작설립한 DPI 레티클테크놀로지센터와 DPI의 한국 이천 소재 위상변이마스크개발센터의 협력도 포함된다.
양사는 또한 0.12미크론 및 0.1미크론 마스크 제조의 기반이 되고, 0.07미크론급 소자 프로토타이핑에 사용할 수 있는 e빔 기술에 대한 타당성 조사도 벌이기로 했다.
이 밖에 양사는 LETI의 웨이퍼 기술과 장비를 이용해 극자외선(EUV) 포토마스크 소스를 개발하기로 했다. EUV는 스칼펠(SCALPEL)과 함께 0.1미크론 이하 반도체 제조에서 기존 광 리소그래피 기술을 대체할 수 있는 기술로 평가되고 있는데, DPI는 이미 루슨트테크놀로지스와 스칼펠 마스크 관련기술을 공동개발키로 합의한 바 있다.
안경애기자 kaahn@etnews.co.kr