지난 87년에 설립된 반도체 장비 전문회사인 케이씨텍(대표 고석태)은 이번에 이산화탄소를 이용한 극저온 세정장치를 비롯하여 PFC플라즈마 스크러버(Plasma Scrubber), HF믹싱(Mixing)시스템 등 장비와 실리콘캐소드·ESC 등 반도체 관련 소모품을 출품했다.
극저온 이산화탄소 세정장치는 불활성 기체인 이산화탄소(CO₂)를 고체입자로 만들어 고속으로 가속시킨 후 오염된 파트(Parts)의 표면에 부딪히게 하여 오염물질을 제거하고 찌꺼기마저 남지 않도록 한 장비로 청정세정기술이 반영된 제품이다.
또 현재 널리 사용중인 웨트세정방식에 비해 환경안전보건 부하를 감소시키고 비용을 절감할 수 있게 설계됐다.
또 PFC플라즈마 스크러버는 반도체 제조에 쓰이는 PFC 가스를 분해하여 대기중에 무해한 상태로 방출할 수 있도록 하는 장치이며 HF믹싱 시스템은 HF원액과 DI워터를 자동으로 혼합하고 공급하는 장비다.
특히 HF믹싱 시스템은 프리믹서 유닛을 이용한 인라인 혼합방식을 채택해 기존 장비에 비해 크기가 줄었으며 고정밀도·고집적화 반도체를 생산할 수 있게 했다.