반도체 화학재료업체들이 DUV(Deep Ultra Violet) 포토레지스트사업 확대에 적극 나섰다.
20일 관련업계에 따르면 동진쎄미켐·동우화인켐·한국쉬플리·클라리언트산업 등 주요 화학재료업체들은 해외업체들과의 협력 및 양산기반 확충을 통해 DUV 포토레지스트사업을 본격 강화할 계획이다.
이러한 방침은 삼성전자·현대반도체 등이 회로선폭 0.25㎛(1미크론은 100만분의 1m) 이하의 초미세공정으로 대거 전환하면서 DUV용 포토레지스트 수요가 올해 본격화할 것으로 기대되기 때문이다.
동진쎄미켐(대표 이부섭 http://www.dongj in.com)은 DUV 포토레지스트인 「DHK 1000 시리즈」 「DHA 1000 시리즈」 등의 개발을 끝마치고 상반기중 본격적인 양산에 나설 계획이다.
이 회사는 최근 DUV 포토레지스트사업을 강화하기 위해 전담사업부서를 신설함과 아울러 주요 고객들의 공정에 맞춘 제품 개발도 추진하고 있다. 또 해외영업을 확대하기 위해 미국 반도체업체들이 설립한 세마텍에 관련 샘플을 보내 국제적인 인증작업도 추진하기로 했다.
동우화인켐(대표 한의섭 http://www.dwchem.co.kr)은 올해 DUV 포토레지스트를 자체 생산하기로 하고 전북 익산 공장에 100억원 정도를 신규 투자할 계획이다. 이 회사는 특히 일본 스미토모화학과 기술제휴 및 기술이전을 통해 DUV 포토레지스트의 해상도를 높이는 연구개발에 주력할 방침이다.
한국쉬플리(대표 양창원 http://www.shipley.com)는 DUV 포토레지스트에서 가격경쟁보다는 성능향상에 중점을 두고 다양한 리소그래피 공정과 부합하는 제품 개발을 추진중이다. 이 회사는 연구소 인원을 더욱 강화시켜 비메모리 분야에 집중했던 DUV 포토레지스트사업을 올해부터는 메모리쪽으로 확대할 예정이다.
클라리언트산업(대표 프리드릭 호니그먼 http://clariant.com)도 올해안으로 안성 공장에서 DUV 포토레지스트를 양산한다는 계획을 세우고 일본 클라리언트 등 해외 선진기술을 도입해 신제품 개발에 박차를 가하고 있다.
업계의 한 관계자는 『현재 50% 수준인 반도체업체들의 DUV 공정률이 올해중으로 90%에 달해 이 시장을 놓고 DUV업체들의 경쟁이 치열할 전망』이라고 밝혔다.
<정혁준기자 june@etnews.co.kr>