아펙스(대표 김상호 http://www.apexsemi.com)는 25일 256M D램 이상의 고집적 반도체 양산공정용 탄탈룸막(Ta₂O●) 유기화학증착(MOCVD)장비를 현대전자 청주공장에 공급했다.
이번 탄탈룸막 증착장비는 256M D램급 이상의 메모리반도체 제조에 필수적인 장비로, 전하를 저장하는 커패시터를 형성시킨다. 특히 이 장비는 기존 산화/질화막보다 전하보존용량이 3배 이상 높아 0.15㎛ 이하의 제조공정에 적합한 탄탈룸막을 형성시켜준다.
회사 관계자는 『이번 장비공급은 어플라이드머티리얼스 등 외국 대형업체들을 제치고 탄탈룸막 증착장비시장을 선점함과 동시에 순수 국산기술을 이용해 양산용 CVD장비를 공급했다는 데 의미가 있다』고 말했다.
탄탈룸막 CVD장비는 256M D램부터 4G D램까지 사용 가능하며 앞으로 5년동안 매년 20대 가량의 수요가 발생할 것으로 전망되고 있다.
<온기홍기자 khohn@etnews.co.kr>