아토(대표 오순봉 http://www.atto.co.kr)는 생산품목 다양화를 위해 플라즈마화학증착(PECVD : Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)공정장치시장에 진출한다.
이 회사는 그동안 반도체 제조용 가스 공정장비를 생산해온 기술력을 바탕으로 반도체 일관생산(FAB) 공정분야의 핵심장비 중 하나인 PECVD장비 개발에 착수한다고 28일 밝혔다.
이 회사는 이를 위해 연구소에 CVD장비 연구개발팀을 두고 동종 장비 및 반도체 소자업계에서 전문인력 8명 가량을 영입했다.
회사 관계자는 『그동안 반도체 제조용 주변장치만을 개발해왔으나 앞으로 한단계 도약을 위해 핵심 FAB장비사업에 뛰어들기로 결정했다』며 『이르면 내년 말이나 2002년 초께 시제품을 내놓고 국내 반도체 소자업체에서 성능평가를 받을 계획』이라고 말했다.
이와 관련, 이 회사는 최근 유상증자를 실시해 확보한 여유자금을 PECVD장치 연구에 투입하기로 하는 한편, 이달 신축한 경기 시화공단내 연구소·공장에서 장치의 개발·생산에 나서기로 했다.
CVD 공정장치는 실리콘 기판(웨이퍼)에 절연체나 전도체 등의 일정한 막을 입히는 정밀 화학증착장치이며, 활성 및 반응 에너지를 가하는 방식과 반응압력에 따라 저압(LP)CVD, 플라즈마(PE)CVD, 유기금속(MO)CVD, 상압(AP)CVD 등으로 구분된다.
<온기홍기자 khohn@etnews.co.kr>