『지난해는 사업실적이 당초 목표치를 밑돌긴 했지만 오히려 차세대 장비기술 개발과 국내외 고객들에 대해 완벽한 서비스 제공을 위한 준비와 내부 역량을 충분히 다질 수 있었습니다.』
주성엔지니어링의 황철주 사장은 『2000년 말까지를 성장준비기라고 한다면 2001년부터는 도약기가 될 것』이라며 『2003년에 세계 10대 반도체 제조 앞공정 장치 메이커로 성장하기 위해 올해 본격적인 성장을 이루고 명실 상부한 글로벌 기업으로 자리매김을 해 나가겠다』고 강조했다.
황 사장은 이를 위해 주력 제품인 저압 화학증착(LP CVD)장치의 지속적인 성장 기조를 유지하는 한편, 이미 개발해 양산 적용 검증을 마친 차세대 고집적 반도체 제조용 PECVD·MOCVD 장치 등의 신제품에 대해 시장 초기부터 우위를 점유해 나갈 계획이라고 덧붙였다.
아울러 『차세대 300㎜웨이퍼 공정장비 시장의 초기 향배가 향후 장치 업계의 대세를 가르는 만큼 국내외 반도체 업체들의 300㎜웨이퍼 공정 투자에 총력 대응해 나갈 작정』이라면서 『원자층증착(ALD)장치, 건식 식각장치 등 신규 핵심 공정장비도 올 하반기중 선보이겠다』고 강조했다.
황 사장은 또 『2000년 한해 동안 미국·대만·일본·유럽 현지에 판매·서비스망을 모두 구축함과 동시에 해외 굴지의 반도체 제조업체들과 장비 평가와 서비스를 실시해 오면서 탄탄한 인지도와 신뢰를 쌓았기 때문에 기대해볼 만하다』고 말했다.
<온기홍기자 khohn@etnews.co.kr>