코스닥 등록기업인 코닉스(대표 우부형)는 반도체 제조시 발생하는 유해가스를 효과적으로 처리하는 기술을 개발했다고 25일 밝혔다.
우부형 사장은 『열 플라즈마 공정기술을 반도체 유해가스 제거용 스크러버에 적용해 지구온난화 물질인 PFC가스를 처리할 수 있는 기술을 개발했다』며 『열 플라즈마의 특성인 높은 화학적 활성과 초고온을 적용했다』고 말했다.
우 사장은 또 『이번에 개발한 기술은 PFC가스를 실제로 처리할 수 있는 온도가 2000도 이상이기 때문에 난분해성 가스인 PFC를 효과적으로 처리할 수 있으며 기존의 저온 플라즈마 또는 고온 열분해방식(1000도 부근)보다 처리효율이 훨씬 뛰어나다』고 덧붙였다.
반도체 제조공정에서 발생하는 PFC가스는 이산화탄소보다 온난화 지수가 높은 오염물질로 세계 반도체 제조업체들은 2010년까지 사용량의 10% 감축을 약속하고 있다.
이에 따라 미국 리트머스가 저온 플라즈마를 이용한 PFC가스 처리기술을 선보인 이후 우리나라에서도 많은 연구가 진행되고 있다.
우 사장은 『이번에 열 플라즈마 공정기술을 개발한 연구팀을 「플라즈마 테크놀리지」로 분사해 플라즈마 기술을 이용한 특수폐기물 처리장치, 플라즈마 용사장치 등의 개발에 집중할 계획』이라고 밝혔다.
<배일한기자 bailh@etnews.co.kr>