2∼10㎓의 고주파를 처리하는 박막형체적탄성공진기(FBAR : Film Bulk Acoustic Resonator) 필터의 상용화가 앞당겨지고 있어 기존 표면탄성파(SAW) 필터 및 세라믹 필터 시장에 상당한 영향을 미칠 전망이다.
4일 업계에 따르면 최근 미국 애질런트테크놀로지스가 FBAR필터의 초기생산에 들어간 데 이어 국내에서도 삼성전기·LG이노텍·어드반스트나노테크놀로지(ANT) 등이 양산준비에 박차를 가하고 있다.
국내외 업체들의 이같은 움직임은 불확실한 시장과 초기 설비투자 부담으로 FBAR 필터의 생산을 망설였던 반도체 및 부품업체들이 휴대기기의 경박화 추세로 수요가 급증하고 있다는 판단에 따른 것이다.
업계 관계자들은 『FBAR 필터는 SAW 필터보다 주파수 대역이 넓고 세라믹 필터에 비해 크기가 10분의 1밖에 안돼 개인휴대단말기(PDA) 등 휴대형 전자기기의 경박화 추세에 적합하다』면서 『올해 5억4000만개(1조3000억원) 규모인 휴대폰용 SAW 필터 시장을 대체할 경우 막대한 시장을 형성할 것으로 관측했다.
애질런트는 미국 뉴어크(Newark) 공장에 생산능력 월 500만개인 FBAR 필터 라인을 구축하고 최근 가동에 들어가 삼성전자의 소형 휴대폰단말기인 「워치폰」과 미국 에어프라임의 PDA용 고주파(RF) 카드로 공급하기 시작했다.
애질런트가 양산에 들어감에 따라 웨스팅하우스·모토로라·지멘스·무라타 등 FBAR 필터의 시제품을 개발한 업체들의 상용화 행보도 더욱 빨라질 전망이다.
LG이노텍(대표 김종수 http://www.lginnotek.com)는 지난해 말 FBAR개발팀을 구성해 올해 안으로 시제품을 개발, 내년중 양산체제를 구축할 계획이다.
삼성전기(대표 이형도 http://www.sem.samsung.co.kr)는 삼성종합기술원으로부터 FBAR 필터 개발사업을 이관받아 전담팀을 구성했으며 올해 말까지 FBAR 필터 또는 듀플렉서를 개발해 곧바로 양산라인 구축에 들어갈 예정이다.
벤처기업인 ANT(대표 박희대)는 최근 FBAR와 관련한 기초기술을 개발하고 설비투자를 위한 외부자금을 유치해 생산라인을 구축, 이르면 내년 초부터 생산할 예정이다.
이밖에 KEC도 FBAR 필터의 개발에 착수했으며 삼성종합기술원·광운대·서울대·한양대 등은 FBAR의 응용범위를 넓힌 마이크로전자기계시스템(MEMS)에 대한 연구를 진행중이다.
<김인구기자 clark＠etnews.co.kr>
용어설명 : 박막형체적탄성공진기(FBAR : Film Bulk Acoustic Resonator) 필터는 2∼10㎓의 고주파를 수신하는 과정에 특정 주파수만을 추출, 잡음을 제거하고 음질을 높이는 기능을 하는 핵심부품으로 반도체의 스퍼터링 공정을 이용, 박막화함으로써 기존 표면탄성파(SAW) 필터 및 세라믹 필터에 비해 크기가 10분의 1 이하로 작아 가볍고 전력소모도 적은 차세대 필터다.