기존 화학증착(CVD)장비를 대체할 차세대 증착장비인 원자층증착(ALD)장비의 개발이 활기를 띠고 있다.
3일 업계에 따르면 아이피에스·지니텍·주성엔지니어링·피케이엘 등 국내 반도체 장비업체들은 수년 전부터 연구해오던 ALD장비 개발을 거의 마무리하고 상용화 채비에 적극 나섰다.
특히 CVD 부문에서 해외 선진업체들에 비해 후발주자였던 국내업체들이 차세대 방식으로 급부상하고 있는 ALD 부문에서는 미국·일본 등의 선진업체들과 대등한 위치에 올라 있어 본격적인 시장형성이 예상되는 3년 후에는 상당한 영향력을 행사할 수 있을 것으로 전망된다.
국내업체들이 ALD장비 개발에 적극 나서는 것은 기타 전공정장비의 경우 국내업체들이 해외업체에 비해 기술이나 가격경쟁력면에서 열세에 있어 시장진입 장벽이 높지만 아직 본격적인 시장이 형성되지 않은 ALD장비시장은 대당 20억원 이상의 고부가가치 제품이고 틈새시장으로 개척 가능성이 높기 때문이다.
아이피에스(대표 이용한 http://www.ips-tech.com)는 양산라인에 투입 가능한 ALD 장비(모델명 나노ALD)의 개발을 마치고 ALD장비 7대를 삼성전자에 공급, 성능평가작업을 진행중이다. 이 회사는 지난해 제휴한 SVG를 통해 미국과 일본 시장발굴에 나서고 있어 상용화에 유리한 위치를 선점할 수 있을 것으로 보고 있다.
지니텍(대표 이경수 http://www.genitech.co.kr)은 올초 세계 최초로 기가급 D램 생산에 적용 가능한 플라즈마 ALD기술 발표 후 최근 데모장비의 개발을 완료하고 하이닉스반도체에 ALD 예비제품 2대를 공급, 성능평가작업을 진행중이다.
이 회사는 데모장비를 타 소자업체에도 공급해 성능평가작업을 추가로 실시한 후 국내외 소자업체, 연구소 등 연구개발(R&D)시장을 개척한다는 계획이다.
피케이엘(대표 정수홍 http://www.pkl.co.kr)은 3년 전 ALD 개발에 착수해 지난 5월 초 ALD반응실에 관한 특허를 획득하고 연내에 컴텍스와 공동으로 이 기술을 적용한 장비를 개발할 예정이다.
주성엔지니어링(대표 황철주 http://www.jseng.com)도 자사 CVD부문 연구조직을 활용해 극박막형성장치 개발의 일환으로 기가급 D램 생산에 적용할 수 있는 ALD장비를 개발중이다. 이 회사는 Al2O3, STO, TiN, SiN 등의 공정개발이 마무리되는 올해 말께 완성장비를 선보일 계획이다.
<최정훈기자 jhchoi@etnews.co.kr>