포토리소그래피 공정용 화학재료시장이 연간 14% 이상 팽창하는 등 올해부터 2007년까지 7년 동안 매년 급성장할 것이라는 전망이 나왔다.
미국의 반도체 시장조사 전문회사인 ‘클라인앤드컴퍼니’의 보고서에 따르면 전반적인 반도체 경기 하락에도 불구하고 극자외선(DUV:Deep Ultraviolet) 포토레지스트 시장은 매년 호조를 보일 것으로 예상됐다. 이에 따라 포토리소그래피 화학재료 시장은 평균 성장률의 배에 달하는 연간 14%의 성장률을 기록할 것으로 전망됐다.
극자외선 포토레지스트는 빛 흡수율이 높아 기존 레지스트와는 달리 미세공정 지원이 가능한 것이 특징이다. 특히 193나노미터(㎚)와 248㎚ 이상 미세공정이 확대됨에 따라 불화크립톤(KrF), 불화아르곤(ArF) 등 극자외선 포토레지스트가 G라인, I라인 등 과거 공정용 포토레지스트를 빠르게 대체하는 추세를 보이고 있다.
이에 따라 반도체 재료시장의 43%, 26억달러 규모를 나타내고 있는 포토레지스트시장은 오는 2006년 46억달러, 반도체 재료시장의 52%를 점유할 것으로 이 보고서는 내다봤다.
세계 포토레지스트업계는 현재 불화크립톤 포토레지스트 양산에 주력하고 있으며 차기 제품인 불화아르곤 포토레지스트의 개발·양산에 힘을 기울이고 있다.
<손재권기자 gjack@etnews.co.kr>