반도체 공정용 소재 전문업체 크린크리에티브(대표 정구동 http://www.cleancreative.co.kr)는 나노기술을 응용, 실리콘웨이퍼용 에지 슬러리를 개발해 양산에 착수했다고 28일 밝혔다.
이번에 개발한 실리콘웨이퍼용 에지(Edge) 슬러리는 10∼100㎚의 나노 입자를 제어, 8인치 웨이퍼 외곽부분이 미세하게 갈라지는 현상을 막기 위한 연마재료로 그동안 전량 수입에 의존해왔다.
이 회사는 총 15억원을 투자, 3년간의 연구개발을 통해 이 제품을 개발했으며 충북 음성공장에서 연 300톤 규모로 양산할 계획이다.
또 이번 웨이퍼용 슬러리 개발로 나노입자 제어기술을 확보함에 따라 향후 반도체 공정용 차세대 CMP 슬러리 및 광통신용 커넥터 슬러리 개발에 나서는 등 종합 슬러리 생산체계를 갖춘다는 방침이다.
정구동 사장은 “이번 제품개발로 연간 100억원 이상의 수입대체 효과를 기대하고 있다”며 “향후 고부가가치 정보전자소재 제품개발에 주력할 계획”이라고 말했다.
<손재권기자 gjack@etnews.co.kr>