고순도 흑연재 및 실리콘 전극을 생산하는 티씨케이(대표 권봉수 http://www.tck.co.kr)는 실리콘카보네이트(SiC:Silicon Carbonate) 웨이퍼용 소재, 반도체 확산로의 튜브 등으로 쓰이는 화학기상증착(CVD)-SiC의 국산화에 성공, 양산에 들어간다고 15일 밝혔다.
티씨케이는 이에 따라 50억원을 투입, 경기 안성 공업단지내 연면적 2970여㎡(900평)의 공장을 건설하고 화학기상증착용 확산로(CVD furnace) 1기를 도입, 9월부터 월 1000장 규모로 양산에 들어갈 예정이다. 회사측은 이번 CVD-SiC 국산화로 연 100억원 이상의 수입대체효과를 예상하고 있다.
CVD-SiC는 반도체 확산(defusion)공정중 확산로에 들어가는 튜브, SiC 웨이퍼 제조중 파티클을 적게 만드는 재료 등에 쓰이는 제품으로 그동안 일본 아사히·도시바·생코방·도요탄소 등에서 전량 수입해왔다.
백신기 상무는 “이번 CVD-SiC 국산화는 일본 도카이카본으로부터 생산기술을 이전받아 국산화에 성공할 수 있었다”며 “연내 기술연구소를 설립해 향후 2005년까지 관련 아이템을 계속 국산화할 계획”이라고 말했다.
<손재권기자 gjack@etnews.co.kr>