반도체장비 제조업체 한택(대표 한종훈 http://www.hantech.co.kr)이 차세대 세정장비인 레이저 건식 세정장비를 개발했다.
20억원의 자금을 투입하고 2년여의 개발기간을 통해 개발한 레이저 건식 세정장비는 종전의 습식세정 공정을 대체할 수 있는 신기술로 평가된다.
특히 기존 습식세정 공정에서 많은 양의 물과 화학약품의 사용으로 발생됐던 환경오염, 고비용 문제 등을 해결할 수 있을 뿐만 아니라 소자의 경박단소화에 따른 청결도 향상 요구, 새로운 재료와 공정의 개발에 따른 세정의 어려움 등을 해소했다.
장비 적용분야는 화학기계적연마(CMP) 공정 후 슬러리 제거, 유무기 파티클 및 각종 잔유물 제거, RIE·HDI 공정 후 경화된 감광막 및 폴리머 제거, 웨이퍼 및 금속박막 표면의 거친 정도(roughness) 개선 등이다.
이 장비는 크게 세정원인 레이저 빔을 제공하는 레이저 발생부, 렌즈와 반사경을 이용해 빔을 전달하는 빔 전달부, 세정공정이 이뤄지는 세정 프로세스부, 200㎜ 웨이퍼 이송부 등으로 구성돼 있으며 300㎜ 웨이퍼 대처능력은 추후 보강될 예정이다.
한종훈 사장은 “레이저 건식 세정장비는 성능 면에서 종전 습식 세정장비를 완벽하게 대체할 수 있으며 소자업계가 추구하는 환경친화적 반도체 생산환경 구성에도 부합된다”며 “수년 안에 세정장비시장에서 주력제품으로 부상할 예정이어서 시장전망은 매우 밝은 편”이라고 말했다.
<최정훈기자 jhchoi@etnews.co.kr>