실리콘계 반도체 소자의 극박막 조성과 화학 상태 등의 초정밀 측정이 가능한 세계 최고 수준의 분석기술이 국내 연구진의 의해 개발됐다. 이에 따라 반도체·신소재·나노기술(NT) 등 초고정밀도가 요구되는 국내 하이테크 분야에 새로운 전기가 마련될 전망이다.
과기부 21세기 프론티어연구개발사업 중 ‘테라급나노소자개발사업단(단장 이조원)의 과제를 수행중인 연세대 초미세표면과학연구센터 염한웅 교수팀은 지난 4년간 약 10억원의 개발비를 투입, 세계 수준의 분석정밀도(분해능)를 갖는 반도체용 광전자분광(광전자분석)설비를 개발, 실리콘산질화절연막 분석에 성공적으로 응용했다고 8일 밝혔다.
염 교수팀이 개발한 설비는 반도체 박막재료의 조성과 화학적 상태를 측정하는 전자분광설비의 일종이다. 포항공대 ‘포항가속기연구소’의 고휘도 방사광발생장치를 이용, 분석 정밀도와 감도를 획기적으로 향상시킨 것이 특징이다.
염 교수는 “이를 국내외 연구진과 공동활용, 90나노(㎚)급 실리콘 소자에 사용되는 나노 실리콘산질화박막 계면의 화학적 상태와 초기 박막 형성과정을 밝혀내는 큰 성과를 거두었다”면서 “이미 고체물리학 분야의 최고 권위지인 ‘피지컬리뷰’에 게재돼 세계적인 주목을 받고 있다”고 말했다.
삼성종합기술원 나노분석실 송세안 박사는 “기존 장비에 비해 아주 미세한 부분까지 분석할 수 있기 때문에 차세대 반도체를 비롯해 전자소재·재료 등 첨단기술에 널리 활용될 것”이라고 기대했다.
<이중배기자 jblee@etnews.co.kr>