오는 2005년에는 방사광가속기를 이용한 나노급 반도체 소자의 제작이 가능하게 될 전망이다.
포항방사광가속기연구소(소장 백성기)는 3일 한양대와 64 기가비트 이상의 차세대 나노급 반도체의 생산공정 연구용 극자외선 노광(lithography) 빔라인을 건설하는 협약을 체결했다고 밝혔다.
반도체의 집적도를 높이기 위한 핵심기술인 노광 공정에 방사광을 이용하는 기술은 국내 최초로 시도되는 것인데 극자외선 노광기술의 경우 전세계적으로도 2008년께 상용화가 예상되는 차세대 기술이다.
이번에 건설될 극자외 노광 빔라인은 우선 마스크의 결함검사, 감광제(photo-resist)의 성능검사, 실험용 소자의 제작 등에 활용될 예정이다.
나승유 박사(포항가속기연구소 빔라인부 지원팀장)는 “단순히 반도체 소자 생산기술의 개발뿐만 아니라 65nm 이하의 극미세 패턴이 필요한 NT 및 BT 등에도 활용이 기대돼 파급효과가 크다”며 “이번 빔라인 건설을 통해 반도체 강국의 입지를 확고히 굳힐 수 있을 전망”이라고 말했다.
<대구=정재훈기자 jhoon@etnews.co.kr>