◇아이피에스
삼성전자 300mm라인에 원자층증착 장비(ALD)를 공급하고 있는 아이피에스(대표 장호승 www.ips-tech.com)가 국내 최초로 양산에 적용하고 있는 드라이 에칭장비 NANO Etch 3000과 원자층 증착기술 장비인 NANO ALD 3000을 출품한다.
NANO ALD3000은 300mm웨이퍼용으로 표면 제어 반응 방식인 원자층 증착 ALD를 할 수 있다. 이러한 공정 능력을 바탕으로 NANO ALD시스템은 0.10um 이하의 공정에서 PVD, CVD 방식의 근본적인 문제인 취약한 스텝 커버리지(Step Coverage)를 해결 할 수 있고 막질이 우수한 박막을 얻을 수 있는 장점을 갖고 있다. 또 이 시스템은 반도체 소자의 양산성이 검증됐고 높은 생산성을 유지 할 수 있도록 설계된 시스템으로 정확한 웨이퍼 이송 시스템, 자동 제어 방식, ALD 방식에 최적화 된 반응기 및 가스 이송기구를 구현한 장비다.
NANO Etch 3000은 256MD급 이상의 소자의 양산에 기여해 인정 받고 있는 장비로 플라즈마 밀도와 균일도를 향상시켜 현재는 D/R 0.1um까지 적용이 가능하게 개발돼 있다. 제어 시스템 및 소프트웨어 조작이 용이하고 온라인, 자동화 대응이 가능하다.
아이피에스사는 반도체 장비의 국산화를 위해 1996년 설립된 회사로 세계 최초로 200mm ALD시스템을 개발해 반도체 공정에 적용 테스트를 거쳐, 양산 공정에 적용했다. 또 차세대 장비의 지속적인 연구개발의 결과로 300mm 장비 시장에서도 양산성을 검증 받아 지속적인 도약의 기초를 만들어 가고 있다.
장호승 사장은 “많은 반도체 회사들이 기존의 증착장비인 CVD(화학기상증착)를 ALD로 대체할 것을 고려 중이어서 반도체 경기가 상승, 투자가 이뤄지면 수요가 급증할 것”이라며 “현재는 커패시터(Capacitor)를 형성하는 데 주로 쓰이고 있지만 향후 게이트(gate)에도 쓰일 것에 대비해 개발 중”이라고 말했다.
◇아토
아토(대표 문상영 www.atto.co.kr)는 이번 전시회에 가스 케비넷, 가스랙 등 가스 관련 장비와 플라즈마 화학기상증착(PE CVD) 장비 등을 출품한다. 이 회사는 특히 신규 주력제품인 PE-CVD를 이번 전시회를 통해 알려 새로운 수익모델로 육성해 나갈 계획이다. 이 제품은 이미 삼성전자와 공급 계약을 체결하고 국산화에 성공한 제품이다.
이 장비는 반도체를 가공하는 메인 공정장비 가운데 하나로 웨이퍼 표면에 원료가 되는 가스를 공급해 열 및 플라즈마를 이용해 화학적 반응을 통한 산화막, 금속막 등을 증착 시키는 장비다.
아토는 올 1월에만 국내외 반도체 회사로부터 6건의 반도체 장비 공급 계약을 잇따라 체결, 주목을 받고 있다. 이 회사는 올 1월 삼성전자에만 102억원 규모의 가스 케비넷, 가스랙 등 가스 관련 장비와 플라즈마 화학기상증착(PE CVD) 장비 공급 계약을 채결했으며 중국의 파운드리 업체 헤이진과 대만의 파운드리 업체 UMC에도 약 30억원 상당의 장비를 공급했다. 이는 지난해 매출액인 420억원의 31%에 해당하는 규모다.
아토는 특히 삼성전자 라인 증설에 따른 시설 투자로 매출 향상 효과를 보고 있으며 지난 2000년부터 개발한 PE CVD 장비가 성공적으로 삼성전자의 차세대 라인에 공급을 시작, 순익 구조 개선에도 영향을 줄 것으로 기대하고 있다.
아토는 지난 2002년 충북 오창과학단지내에 공장을 준공해 주력 제품들의 기술적 근간이 되는 흡착과 증류방식을 혼합한 초고순도(99.9999% 이상)의 특수가스를 직접 정제해 반도체 및 LCD 업체 등에 공급하고 있다. 현재 반디디스플레이 사업에도 공격적으로 투자하는 등 사업 다각화를 추진하고 있다.
◇에프에스티
반도체용 펠리클 및 칠러 전문 제조업체인 에프에스티(대표 장명식 www.fstc.co.kr)는 반도체용 냉동 칠러(Chiller ‘모델명 FSTC-CD352’)를 출품한다.
이 제품은 기존 전기식 칠러와 비교해 볼 때 -40도까지 온도를 유지할 수 있는 극저온 방식이 특징이다.
또 기존 프레온 가스가 아닌 신냉매(R404A) 가스를 사용하였으며 통합 인터페이스 보드를 장착하여 각 사의 메인 장비와 호환이 가능한 것이 장점이다.
회사측은 이 장비에 PLC 컨트롤 및 터치 스크린 방식을 채택하여 조작이 편리하다고 설명했다.
에프에스티는 또 반도체용 펠리클(모델명 G&I,KrF,ArF)과 IPA 드라이어(모델명 FT-200-FRD), 자동항온항습조절장치(THC, 모델명 FSTA-T08DN)도 함께 선보인다.
포토마스크에 부착되어 수율을 향상시키는 펠리클의 중요한 특징인 빛의 투과율을 0.1% 이내로 줄여 균일성을 개선하였으며 단파장을 사용함에 따라 발생할 수 있는 아웃가싱(outgassing)의 영향으로부터 최소화하는 머트리얼을 적용한 것이 특징이다. IPA 드라이어는 세정공정 후 불량율이 높은 건조과정에서 불량율을 최소화 하기 위해 초순수 용액(DI)을 탑 다운방식으로 전환했고 스탠드 얼론은 물론이고 어느 세정장비와도 연결 가능하며 적용 웨이퍼는 4인치에서 12인치까지다.
에프에스티는 지난해 매출 210억원 정도를 달성할 것으로 예측하고 있으며 펠리클 뿐만 아니라 칠러 및 세정장비의 판로를 확대하여 사업 다각화를 성공적으로 진행하고 있다. 또 최근 LCD용 펠리클을 개발 중에 있다.
◇일산썬텍
초음파 세척시스템업체인 일산썬텍(대표 이희명 www.ilsantek.co.kr)은 샤워 타이프의 메가소닉 클리너를 출품한다. 이 제품은 주파수 1MHz의 고주파세척으로 웨이퍼 및 피 세척물의 패턴손상을 방지하고 흐르는 물로 세척함으로써 재 오염을 방지하는 것이 특징이다. 웨이퍼, 포토마스크, LCD글라스, HDD 등의 세척에 적합하다. 유효세정면적은 100mm∼600mm까지 모델 별로 다양한 제품군을 갖고 있다.
일산썬텍은 1990년 설립이래 초음파 세척시스템 분야에서 비약적인 발전을 이룩하여 왔다. 설립초기 자체적으로 개발, 양산을 시작한 초음파 진동자는 꾸준한 해외 판매를 이룩하여, 일본을 비롯한 동남아 시장에서 점유율 선두를 유지하여 왔다. 이러한 초음파 진동자 시장을 발판으로 자체적으로 개발한 초음파 세척 유니트는 투입식, 단조식 등 다양한 세정방향을 제시함으로써 그 시장을 넓혀 가고 있다. 이 회사의 초음파 세척 유니트는 치열한 세계시장에서도 초음파세척 대표 제품으로 자리매김하고 있다.
이 회사는 초음파 기업 부설연구소를 설립하고, HP4194A 등 다수의 계측장비, 신뢰성 평가장비를 구비해 차세대 응용분야를 선도적으로 이끌고 있다. 이러한 품질관리 및 연구개발의 일환으로 일본, 미국, 유럽 등 세계 20여개국으로 수출하고 있으며, 세계최고 수준의 품질을 인정 받아 유수업체에 OEM으로 공급 중에 있다.
최근에는 고주파시스템인 메가소닉(Megasonic)을 개발해 다수의 신제품을 출시하면서 CE 등국내 및 해외특허를 획득했다.
◇세믹스
세믹스(대표 유완식 www.semics.com)는 300mm 양산용 웨이퍼 프로버 ‘Opus II‘를 출품한다.
웨이퍼 프로버는 그 동안 세계 몇 개의 메이저에 의해 독점돼 높은 진입장벽 때문에 국산화에 난항을 거듭해 왔던 장비중 하나다. 이 회사는 300mm 양산용 웨이퍼 프로버 Opus II를 개발해 대만 등 해외에서 성공적인 시장진입을 하였고 올해부터 국내시장을 겨냥해 이번 전시회에 장비를 출품했다. 대만, 중국 등의 전시회에서는 이미 이 모델을 선보인바 있으나 국내 전시는 이번이 처음이다.
세믹스는 과거 LG가 반도체 사업을 할 때부터 LG그룹에서 웨이퍼 프로버를 개발하다 2000년 초 창업한 회사로 지금까지 웨이퍼 프로버 하나의 개발 및 판매에만 집중해온 전형적인 한 아이템 전문회사이다.
이번에 전시된 Opus II의 가장 큰 특징은 날로 커지는 테스트 헤드의 장착을 용이하게 하기 위해 로더 쪽을 평탄하게 만들었다는 것이다. 이렇게 할 경우 문제가 되는 세계 표준의 카세트 로딩 높이 900mm를 맞추기 위해, 개발과정에서 자동으로 카세트가 앞으로 빠져 나온후 다시 위로 이동 되는 쎄믹스만의 독특한 개념을 도입했다. 이를 통해 이 회사는 큰 테스트 헤드 부착시 장비의 폭을 약 200mm 줄일 수 있게 됐다.
또 리니어 모터 스테이지를 사용해 세계 최고 수준의 실제 접촉 정밀도 +/- 2micron을 구현했다. 세믹스 유환식사장은 “해외의 더 큰 규모의 테스팅 하우스 및 소자회사에 새로이 진출해 고객층을 다양화하고 그 동안 소홀히 해왔던 국내 메모리 라인에 이 장비를 소개할 것” 이라는 올해 포부를 밝혔다.
◇프렉스에어코리아
프렉스에어코리아(대표 이강호 www.praxair.com/semiconductor)는 전자·반도체 등 다양한 제품에 사용되는 특수가스를 이번 전시회를 통해 소개한다.
프렉스에어코리아(전 유니온가스)는 미국 프렉스에어사(전 유니온 카바이드사)의 자본과 기술을 도입해 설립됐으며 1975년 대규모 액화공기 분리공장을 창원공단에 가동함으로 현대화된 국내최초의 산업용가스 생산업체로 출발했다.
종합산업 가스 및 서비스 제공업체로 성장한 프렉스에어코리아는 제철, 제강, 석유화학 등의 기초 산업으로부터 전자, 반도체, 식품 및 음료, 의료, 우주 항공 산업 등 첨단산업에 이르기까지 국내 각 산업 분야에서 필요한 산업용 가스를 제조 및 공급하고 있다.
이 회사의 주요 제품은 산소, 질소, 알곤, 탄산가스 등 일반가스는 물론 헬륨, 수소, 고순도 순수가스, 반도체용 특수가스 및 혼합가스 등 각종 산업용 가스다. 이와 관련된 서비스도 고객의 요구에 따라 일괄 공급하고 있다.
또 가스를 필요로 하는 수요처에 액체 가스 공급 방식, 온사이트, 파이프라인 및 실린더 공급방식 등의 다양한 공급 방식으로, 고객이 요구하는 가장 경제적이고 안정적인 공급 시스템을 제공한다.
특히 프렉스에어코리아는 고객의 생산성 향상 및 원가절감을 위해 미국의 프렉스에어사와 가스응용기술 개발에 관한 연구를 통하여 다양한 가스응용기술을 개발하고 있으며, 1995년 5월에 국내 산업용 가스업체 중 최초로 ISO 9002/KSA 9002 인증을 획득했다.
프렉스에어코리아는 지난 20여년간의 축적된 경험과 끊임없이 연구하는 자세로 가스 사용관련 적용기술을 개발해 고객 만족을 실현하는 동시에 철저한 품질관리와 안전관리를 통해 국내산업 발전에 이바지 한다는 목표를 세워 놓고 있다.