도시바와 NEC가 차세대 반도체 제조에 사용되는 포토마스크 검사기술을 개발하는 회사를 공동 설립한다고 니혼게이자이신문이 보도했다.
두 회사는 합작사에서 회로선폭 45㎚(나노미터, N=10억분의 1) 반도체 제조에 필요한 기술을 내년 중 개발할 예정이다.
합작 법인의 명칭은 ‘어밴스드마스크인스펙션테크놀로지’이며 도시바가 55%, NEC가 45%를 출자해 오는 16일 정식으로 출범한다. 각각 약 40명의 기술자가 합류해 원자외선을 사용한 마스크에 그려넣은 회로 패턴의 결함 여부를 식별하는 기술 등을 개발할 예정이다. 도시바와 NEC는 지난 2001년부터 마스크 결함 검출 기술을 공동 개발해왔다.
명승욱기자@전자신문, swmay@