반도체 및 FPD 장비업체인 한국디엔에스(대표 임종현 http://www.kdns.co.kr)는 자체 개발에 성공한 300㎜용 차세대 세정장비 ‘K-WET 300’ 2대를 일본 후지쯔(비메모리 사업부)에 수출한다고 19일 밝혔다.
이번 수출은 세계 반도체 세정장비 시장에서 최고의 기술을 자랑하는 TEL(도쿄일렉트론), SES 등 일본 장비업체에서도 제작하기 힘든 프론트(Front) 타입 설계로 기술력을 인정받아 처음으로 성사된 역수출이란 점에서 업계의 관심이 주목되고 있다.
‘K-WET 300’은 반도체 제조과정에서 발생하는 웨이퍼 표면의 미립자, 감광액 등 불순물 제거에 사용되는 세정 건조장비로, 기존 장비에 비해 생산성이 뛰어나 단위 면적당 웨이퍼 처리속도가 월등히 빠르다고 회사측은 설명했다. 또 하나의 배스(세척조)에서 세척, 린스, 건조 작업을 연속으로 처리하는 원배스(One Bath)방식과 멀티배스 방식을 동시에 채택, 웨이퍼의 외부 노출을 막아 오염지수가 낮고 산화막 방지 효과가 크다고 전했다.
심규호기자@전자신문, khsim@