세메스(대표 임종현)는 반도체 습식 세정장비의 크기를 반으로 줄인 웨트스테이션(오션)과 나노공정용 불화아르곤(ArF) 트랙장비(나노스핀8)를 개발했다고 26일 밝혔다.
오션은 2층 구조의 새로운 방식을 활용해 크기를 크게 줄인 세정장비이며 나노스핀8은 90∼70nm 노드의 프로세스를 타깃으로 한 200㎜ 웨이퍼 프로세스 대응 레지스트 도포 현상장치다.
이 회사는 현재 삼성전자 반도체 라인에 이 장비를 공정평가용으로 납품한 상태로, 평가를 거쳐 조만간 양산용으로 활용될 전망이다.
심규호기자@전자신문, khsim@