포토마스크 업체들이 새해 90㎚ 이하 반도체 공정용 제품 개발에 승부를 건다.
피케이엘과 토판포토마스크 등 국내 반도체용 포토마스크 업체들은 반도체 공정의 고집적화에 따라 부가가치가 높은 90㎚ 이하 공정용 제품 개발에 주력할 계획이다. 이들 업체들은 지난해 90㎚ 공정용 포토마스크의 개발 작업을 마무리하고 올 2분기부터 신규수요 확보에 적극 나서기로 했다. 이를 위해 R&D센터 신설과 생산 설비 증설 등을 통해 65㎚ 공정용 제품에 대한 연구개발에도 박차를 가할 계획이다.
현재 삼성전자 등 국내 주요 반도체 업체들은 90㎚급 공정 개발을 마치고 로직 제품을 중심으로 일부 라인 가동에 들어간 상태이다. 포토마스크 업체들은 90㎚ 공정이 내년 상반기 이후 늘어날 것으로 기대하고 있다.
피케이엘 최상수 연구소장은 “현재 130∼180㎚ 공정용 포토마스크가 시장의 주류지만 새해에는 90∼130㎚급으로 업그레이드될 것”이라며 “65㎚급 시장도 2007년초를 기점으로 열릴 전망”이라고 말했다.
포토마스크 업체들은 생산 설비 증설과 연구 기능 강화로 고부가 포토마스크 시장에 대응하고 있다.
피케이엘(대표 정수홍 http://www.pkl.co.kr)은 새해 본사인 미국 포트로닉스의 중앙 R&D 센터를 한국에 설립, 65㎚ 이하 제품 개발을 본격화할 계획이다. 또 생산 장비를 추가 도입해 90㎚급 제품 시장을 겨냥한다.
토판포토마스크(대표 박근원 http://www.photomask.com)는 4월부터 이천의 제2공장을 가동, 현재 2000장인 월생산량을 3000장까지 늘이고 90㎚급 포토마스크의 공급을 확대한다. 일본 토판인쇄와의 합병을 계기로 자금과 기술을 보강하면서 65㎚급 제품 개발에도 박차를 가하고 있다.
포토마스크란 석영 기판 위에 반도체·LCD의 미세회로를 형상화한 것으로 노광 시스템을 이용해 회로를 웨이퍼나 유리 기판에 새기는 사진 원판에 해당한다.
한세희기자@전자신문, hahn@