미국의 포토마스크 업체 포트로닉스가 한국을 65㎚ 이하 첨단 포토마스크의 생산 및 연구개발 중심지로 육성한다.
국내 포토마스크 업체 피케이엘의 모회사인 포트로닉스는 3억달러를 투자, 한국에 65㎚ 이하 반도체용 포토마스크 생산 시설을 신축할 계획이라고 10일 밝혔다.
포트로닉스는 경기도 지역을 중심으로 부지를 검토하고 있다. 올해 2분기에 착공, 내년 2분기에 6000∼1만평 규모로 설립될 예정이다. 이 시설은 내년 상반기부터 65nm 및 45nm급 반도체용 포토마스크를 생산하게 되며 세계 각국에 제품을 공급하는 포트로닉스의 중추 생산기지가 될 전망이다.
지난해 천안에 설립한 포트로닉스의 중앙 R&D센터도 신설 공장으로 이전할 계획이다. 또 향후 LCD용 포토마스크 라인 증설도 신공장에서 진행한다. 이번 공장 신설로 150∼200여명의 신규 고용이 창출될 것으로 회사 측은 기대했다. 미국 등 해외 포트로닉스 R&D 인력도 한국으로 일부 이동하게 된다.
정수홍 포트로닉스 아시아총괄 사장은 “포트로닉스 한국지사인 피케이엘은 이번 프로젝트를 통해 포트로닉스 글로벌 R&D를 적극 지원하는 연구개발기지 역할을 수행하게 됐으며 65㎚ 및 45㎚급 포토마스크의 세계 생산 중심기지로서 위상을 높이게 됐다”고 말했다.
한편 지난해 피케이엘은 천안 공장에 ‘포트로닉스·피케이엘 중앙기술연구소’를 개소하며 포트로닉스 월드와이드 R&D 거점으로 자리잡았다. 포트로닉스는 피케이엘의 지분 100%를 보유하고 있다. 한세희기자@전자신문, hahn@