토판포토마스크코리아(대표 박근원)가 국내 90㎚ 이하 반도체 공정용 포토마스크 시장 공략을 가속화한다.
20일 경기도 이천에서 제2공장 준공식을 가진 토판포토마스크코리아는 90㎚ 이하 미세 반도체 공정용 포토마스크 등 첨단 제품 분야에 주력할 계획이다.
이 회사는 제2공장 준공으로 기존보다 30% 늘어난 연 3만장의 포토마스크를 생산할 수 있게 됐다. 특히 반도체 공정 미세화와 함께 수요가 늘고 있는 90㎚급 포토마스크를 현지 공급할 수 있게 됐다. 65㎚ 및 45㎚ 제품의 연구 개발도 진행한다. 본사와의 기술 개발 협력과 현지 생산능력 확대로 국내 반도체 업계의 요구에 신속 대응할 수 있을 것으로 회사 측은 기대했다.
이날 준공식에는 마샬 터너 토판포토마스크 CEO, 손학규 경기도지사, 주덕영 한국반도체산업협회 부회장과 삼성전자·하이닉스·매그나칩·동부일렉트로닉스 등 고객사 관계자 등이 참석했다.
토판포토마스크는 지난 2004년 일본 돗판인쇄가 듀폰포토마스크를 인수해 설립한 포토마스크 전문 업체다.
지난해 양사가 인수합병 작업을 마무리하며 듀폰포토마스크코리아도 토판포토마스크코리아로 명칭을 변경했다.
본사는 미국 텍사스 라운드락에 있으며 일본·대만·중국·싱가포르 등에도 공장이 있다. 한세희기자@전자신문, hahn@