다국적 포토마스크업체들이 나노급 첨단 공정의 이전 및 R&D센터 설립 등을 통해 한국법인의 기능을 대폭 강화하고 있다.
이는 한국에 반도체·LCD 분야의 선도 업체들이 몰려 있어 첨단 기술 개발 및 현지 대응 필요성이 커지고 있는 것이 배경이다.
이에따라 한국은 다국적 포토마스크 업체들의 핵심 R&D 및 생산기지로 떠오를 전망이다.
이미 다국적 포토마스크업체 한국 법인은 본사 전체 매출의 30%를 넘어서는 핵심 사업장으로 자리잡은상태다.
토판포토마스크(대표 박근원)는 경기도 이천의 제2공장 가동을 계기로 일본에서 생산하던 회로선폭 90㎚급 반도체 포토마스크의 국내 생산을 시작했다. 향후 65㎚ 이하급 포토마스크의 연구개발도 국내에서 진행할 계획이다. 이 회사 김득배 상무는 “이천 공장을 전체 토판포토마스크의 허브로 삼아 기술 개발과 미세선폭용 제품 생산에 주력할 것”이라고 말했다.
토판포토마스크는 최근 아시아태평양 지역 영업부사장인 마이크 해셀을 본사 영업총괄사장으로 승진 발령하는 등 본사 차원에서 삼성전자·하이닉스 등의 대형 고객을 둔 한국 및 아시아 시장을 전략적으로 육성하기 위한 포석을 깔고 있다고 회사측은 설명했다. 이천 2공장 증설과 3공장 신규 건설도 추진 중이다.
미국 포트로닉스의 한국 법인인 피케이엘(대표 정수홍)은 3억달러를 투자, 한국에 65㎚ 이하 포토마스크 생산 공장을 신설할 계획이다. 현재 경기도와 천안 지역 등을 중심으로 부지를 물색하고 있다. 또 본사 R&D센터를 피케이엘의 천안 사업장으로 이관, LCD 및 반도체용 신규 제품의 연구개발을 총괄하게 된다.
포토마스크란 석영 기판 위에 반도체·LCD의 미세회로를 형상화한 것으로 노광 시스템을 이용해 회로를 웨이퍼나 유리 기판에 새기는 사진 원판에 해당한다.
한세희기자@전자신문, hahn@