
하이닉스반도체(대표 우의제 http://www.hynix.co.kr)는 300㎜ 웨이퍼시대에 대응해 세계 최고의 R&D 경쟁력을 확보하기 위해 300㎜ 연구개발 팹인 ‘R3’를 이천사업장에 개소했다고 26일 밝혔다.
하이닉스는 이번 R3 R&D 팹의 개소로 시제품과 양산제품이 서로 다른 팹에서 제작되는 비효율적인 요인을 제거함으로써 제품개발을 좀더 신속하게 진행할 수 있으며, 50나노급 이하 D램 및 낸드 플래시 신제품 개발에도 더욱 박차를 가할 수 있게 됐다. R3 팹을 활용하면 세계 최고 수준의 양산·공정 기술에 더해 제품 개발의 효율성을 한층 높일 수 있어, 300㎜ 시장에서도 업계 최고의 원가 경쟁력을 확보할 수 있을 것으로 기대된다.
하이닉스반도체는 올 1월 R3 팹 건설을 위해 태스크포스(TF)를 구성했다. 지난 6월 200㎜ 팹이었던 이천 M6 개조를 시작, 8월에 8500여평 규모의 300㎜ 팹으로 개조해 시험운전 및 안전검사를 완료했다. 이어 이달에 첫 장비를 입고, 10월부터 첫 연구개발용 웨이퍼를 투입한다.
우의제 사장은 “R3 개소식은 그 동안 M10의 눈부신 성장과 중국공장의 성공적인 셋업을 바탕으로, 세계 300㎜ 시장을 본격적으로 이끌어가는 하이닉스의 큰 걸음이 시작되는 자리”라며 “하이닉스 성장의 밑거름이 된 기존 팹의 리모델링 기술이 반영된 R3는 최단 기간에 최고의 완성도를 갖춘 것으로 평가돼 그 의미가 더 크다”고 강조했다.
심규호기자@전자신문, khsim@