카엘은 반도체 제조용 가스제어 필터 관련 특허를 취득했다고 23일 공시했다.
해당 기술은 반도체 제조설비 중 포토 ArF 스캐너 장비에 유입되는 유기물을 효과적으로 제거해 생산성을 극대화 할 수 있다.
카엘은 현재 해당 기술을 적용한 신제품을 출시하여 일부 반도체 제조공정에 적용하고 있으며 추가로 국내 및 해외 반도체 공정의 모든 ArF 스캐너 장비에 적용할 계획이다.
전자신문인터넷 조정형기자 jenie@etnews.co.kr