피에스케이, 반도체 장비 관련 특허취득

피에스케이는 기판 에싱 방법에에 관한 특허를 취득했다고 8일 공시했다.

해당 기술은 에칭 공정중 발생하는 부산물이나 이온주입 공정에 의해 변형된 감광액을 효과적으로 제거할 수 있다.

전자신문인터넷 조정형기자 jenie@etnews.co.kr