구자용 한국표준과학연구원 연구원이 ‘이달의 KRISS인상’ 3월 수상자로 선정됐다. 구 연구원은 반도체 공정 중 잔류수분에 의해 실리콘 웨이퍼 위에 발생하는 결함을 원자 수준에서 규명했다는 평가를 받았다. 구 연구원은 실리콘 웨이퍼 내부에 침투하는 개별 원자들의 거동을 규명해 나노미터 수준의 크기를 가지는 고품질 반도체 소자의 공정개선을 위해 지속적인 연구를 수행할 계획이다.
대전=박희범기자@전자신문, hbpark@
구자용 한국표준과학연구원 연구원이 ‘이달의 KRISS인상’ 3월 수상자로 선정됐다. 구 연구원은 반도체 공정 중 잔류수분에 의해 실리콘 웨이퍼 위에 발생하는 결함을 원자 수준에서 규명했다는 평가를 받았다. 구 연구원은 실리콘 웨이퍼 내부에 침투하는 개별 원자들의 거동을 규명해 나노미터 수준의 크기를 가지는 고품질 반도체 소자의 공정개선을 위해 지속적인 연구를 수행할 계획이다.
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