동부하이텍 반도체부문(대표 오영환 www.dongbuhitek.co.kr)은 23일 미국 반도체 설계 SW업체인 멘토그래픽스와 제휴해서 구축한 OPC 프로그램을 최적화해 반도체 제조공정기술 개발 기간을 최대 1개월 정도 단축할 수 있게 됐다고 밝혔다.
OPC(Optical Proximity Correction)란 반도체 제조 공정 중 복잡한 설계회로를 실리콘 웨이퍼 기판 위에 그려 넣는 포토공정에서 빛의 특성 때문에 발생하는 굴절 등 왜곡 현상을 보정해 원하는 설계 회로를 웨이퍼 위에 정확히 패턴화할 수 있도록 미리 설계 데이터 값들을 조정해주는 프로그램이다.
동부하이텍은 이를 통해 110나노 제품의 경우 통상 10일 정도 걸리는 OPC 기간을 2일 이내로 단축할 수 있게 됐다. 4∼5개월 정도 걸리는 반도체 공정기술 개발기간 중 OPC가 3회 이상 진행되는 것을 감안하면 제품 양산시기를 약 1개월 이상 단축할 수 있게 된다.
동부하이텍 관계자는 “이번 OPC 프로그램 최적화를 통해 공정기술 개발 기간을 단축시켜 급변하는 반도체 시장에서 고객의 제품을 신속하게 공급할 수 있게 됐다”며 “멘토와의 협력을 더욱 강화해 90나노 이하 공정에서의 OPC 프로그램 최적화를 추진하기로 했다”고 밝혔다.
동부하이텍은 선행공정개발팀 주관으로 지난 3월부터 4개월 동안 진행한 공정기술 데이터를 분석, 시간이 오래 걸리고 상대적으로 중요하지 않은 데이터들의 연산범위를 줄이고 중요한 핵심 데이터들의 연산범위는 점차 늘려 최적의 설계 데이터를 확보했다.
주문정기자 mjjoo@