케이씨텍이 반도체 Wet 장비에 적용할 수 있는 건조기술에 대한 특허를 취득했다.
이 기술은 공정챔버와 연결되어 건조제를 공급하는 공급라인에 히팅 유닛(heating unit)을 배치하여 미립자 상태로 분사된 건조제를 가열함에 따라 챔버내의 건조 분위기를 최적화하여 웨이퍼 건조 효율을 높일 수 있는 기술이다.
케이씨텍은 이 기술을 반도체 웨트 장비에 적용할 계획이다.
전자신문인터넷 이희영 기자 hylee@etnews.co.kr
케이씨텍이 반도체 Wet 장비에 적용할 수 있는 건조기술에 대한 특허를 취득했다.
이 기술은 공정챔버와 연결되어 건조제를 공급하는 공급라인에 히팅 유닛(heating unit)을 배치하여 미립자 상태로 분사된 건조제를 가열함에 따라 챔버내의 건조 분위기를 최적화하여 웨이퍼 건조 효율을 높일 수 있는 기술이다.
케이씨텍은 이 기술을 반도체 웨트 장비에 적용할 계획이다.
전자신문인터넷 이희영 기자 hylee@etnews.co.kr