반도체 전공정장비업체인 테스(대표 주숭일)는 300mm용 순수불산가스(HF) 건식 식각장비 ‘CUBIC300’을 국내에서 처음 개발했다고 25일 밝혔다.
회사 측은 HF 건식 식각장비가 산화막 식각은 물론 자연산화막 제거도 가능, 반도체 미세공정에서 폭넓게 사용될 수 있다고 설명했다. 과거 HF용액을 이용한 습식 식각장비와 달리 세정액을 쓰지 않아 친환경적이다. 또한 세정 후 건조가 불필요해 생산성향상과 원가절감도 기대된다고 덧붙였다. 여기에 기존의 원거리 플라즈마를 이용한 식각장비보다 플라즈마손상을 최소화할 수 있다고 강조했다.
그동안 이 장비는 일본의 도쿄일렉트론이 독식해왔다. 테스는 이번 개발로 수입대체는 물론 플라즈마화학증착장비(PE CVD)에 이은 또하나의 제품군을 확보했다.
이동덕 테스 이사는 “‘CUBIC300’을 이용하면 기존 장비로 어려운 콘택홀(반도체 금속배선을 위해 뚫는 구멍)의 세정이 가능해 반도체의 신뢰도를 향상시킨다”면서 “일본 장비보다 성능이나 가격 측면에서 우수하다”고 강조했다.
설성인기자 siseol@etnews.co.kr