에스앤에스텍이 약 3년 4개월간의 소송 끝에 일본 경쟁업체 호야(HOYA)의 특허무효 판결을 최종적으로 받아냈다.
반도체·TFT LCD용 블랭크마스크 전문업체인 에스앤에스텍(대표 남기수)은 특허법원의 위상시프트 블랭크마스크(Phase Shift Blank Mask) 특허무효 판정에 대한 호야 측의 상고를 3월 26일 대법원이 기각, 호야와의 특허무효 소송에서 최종 승소했다고 1일 밝혔다.
이번에 무효 처리된 호야의 특허는 반도체 제조 시 패턴의 정밀도를 향상시킬 수 있는 하이엔드급 위상시프트 블랭크마스크에 관한 특허이다. 위상시프트 블랭크마스크는 반도체 집적도가 향상됨에 따라 반도체 소자의 고해상도를 구현할 수 있는 필수 재료로 그 수요가 지속적으로 증가하고 있다. 에스앤에스텍은 이번 무효소송 최종 승소로 현재까지 일본업체가 독점하고 있던 고부가가치 위상시프트 블랭크마스크 시장에 본격적으로 진출할 수 있는 전기를 마련했다고 설명했다.
일본 업체들이 과점하던 블랭크마스크 시장에 에스앤에스텍이 진출한 이후 2005년 9월 호야가 서울중앙지방법원에 특허침해 소송을 제기, 호야와의 특허 분쟁에 뛰어들었다. 에스앤에스텍은 2005년 11월 특허심판원에 특허무효심판을 청구했으며 2007년 7월에 호야의 특허무효 판정을 받아냈다. 호야는 다시 2007년 8월 이 사건을 특허법원에 항소했으나, 이듬해인 2008년 11월 특허법원은 호야의 청구를 기각했으며, 이번 대법원 판결로 약 3년 4개월간의 소송 끝에 에스앤에스텍이 최종 승소, 호야의 특허 무효 처분을 받아냈다.
에스앤에스텍은 이번 특허무효 소송과는 별도로 호야 측에서 제기한 위상시프트 블랭크마스크 및 그 제조방법에 대한 특허침해 소송에서도 2008년 09월 최종 승소한 바 있다.
서동규기자 dkseo@etnews.co.kr