반도체 및 TFT LCD용 블랭크마스크 전문업체인 에스앤에스텍(대표 남기수)이 일본 신에츠와 블랭크마스크 및 포토마스크 제조방법에 관한 2건의 특허 로열티 계약을 체결했다고 18일 밝혔다.
에스앤에스텍은 신에츠에게 특허실시권을 부여하고, 신에츠로부터 향후 해당 특허가 사용된 제품 판매액의 일정비율을 로열티로 받게 된다.
에스앤에스텍이 보유한 2건의 특허는 45㎚ 이하 디바이스 제조에 필요한 차세대 블랭크마스크에 관한 기술로, 반도체용 차세대 블랭크마스크인 하드마스크(Hard Mask)에 적용된다.
블랭크마스크는 반도체 및 TFT LCD 공정재료인 포토마스크의 원재료로 에스앤에스텍이 국산화하기 이전까지 일본에서 전량 수입해왔다.
에스앤에스텍은 이번 계약이 차세대 블랭크마스크 시장에서 주도권을 잡는 계기가 될 것으로 기대했으며 신에츠와의 상호협력체계를 구축, 향후 에스앤에스텍의 고부가가치 제품 개발 및 경쟁력 향상에 큰 도움이 될 것으로 전망했다.
남기수 에스앤에스텍 사장은 “이번 계약은 일본이 독점하던 블랭크마스크 시장에 성공적으로 진출해 블랭크마스크 종주국으로부터 특허 로열티를 받게 된 쾌거”라고 말했다.
서동규기자 dkseo@etnews.co.kr