[파워기업] 재료 균일성·적합성 경쟁사보다 뛰어나

　에스앤에스텍의 주력제품인 블랭크마스크는 반도체 및 LCD 회로 제작에 필요한 포토마스크(Photomask)의 원재료이다. 즉, 패턴이 형성되기 전의 마스크를 의미한다. 포토마스크는 반도체 웨이퍼나 LCD 유리기판 위에 회로의 패턴을 형성하는 필수 공정재료로, 전자회로를 새기는 필름 역할을 한다. 블랭크마스크에서 노광, 식각, 검사, 수리와 같은 일련의 패턴 형성과정을 거쳐 포토마스크가 만들어진다.

　블랭크마스크는 쿼츠(Quartz) 기판 위에 차광막(Light Shielding Layer), 반사방지막(Anti-Reflective Layer), 레지스트막(Resist Layer)이 도포된 형태이다. 쿼츠는 반도체 전공정에 쓰이는 석영유리기판으로, 이 쿼츠 위에 수십에서 수백 나노의 두께를 가지는 크롬(Cr)막 및 크롬산화질화막의 차광막, 반사방지막을 증착한다. 그 위에 레이저·전자빔용 감광액을 도포, 레지스트막을 형성하면 블랭크마스크가 완성된다.

　블랭크마스크는 제품의 기판 및 금속막, 레지스트막의 특성이 해상도(Resolution) 향상을 위해 중요한 요소로 작용한다. 또한, 구현하고자 하는 패턴의 크기가 매우 미세해 작은 결함에도 제품 성능의 큰 차이가 발생해 미세한 기술력이 요구된다. 블랭크마스크는 사용용도에 따라 반도체용과 TFT LCD용으로 구분한다. 마스크 크기의 1/4로 축소되어 회로패턴이 그려지는 반도체용과 달리, TFT LCD용 블랭크마스크는 마스크와 유리기판의 크기가 1대 1로 대응한다. 따라서 세대별로 LCD 패널의 크기가 증가함에 따라 블랭크마스크의 크기도 증가한다. 반도체용 블랭크마스크가 가로, 세로 5∼7인치로 소형인데 비해 LCD용은 33×45㎝에서 135×150㎝까지 비교적 큰 편이다. 최근 고품질의 반도체 및 LCD 소자 제조를 위해서 포토마스크의 원천 재료인 블랭크마스크의 중요성이 점점 높아지고 있다.

　안수민기자 smahn@etnews.co.kr