전기연이 개발한 새로운 개념의 원통형 나노 노광기와 식각기 기술이 해외 유수 반도체 인쇄장비 업체의 러브콜을 받았다.
한국전기연구원(KERI, 원장 유태환 www.keri.re.kr)은 지난 31일 미국 비스텍(Vistec Lithography. Inc)과 경남 밀양시 3자간에 전기연이 개발한 원통형 나노 인쇄전자 기술에 관한 인력 및 기술정보교류, 공동연구 및 사업화 추진에 관한 포괄적인 MOU를 맺고, 기술개발 등에 협력해 나가기로 했다고 1일 밝혔다.
평판형 인쇄전자 분야에서 매출 1조원대를 자랑하는 비스텍은 이 분야의 핵심 장비인 E-빔(E-Beam)에서 세계 최고의 기술력을 보유하고 있는 미국의 대표적 반도체 장비업체. 지난 40여년간 E-빔 관련 기술을 연구·축적하고, 현재까지 세계 20여개국에 수백대의 시스템을 수출했다. 지난 2005년 유명 광학기업인 라이카에 인수돼 비스텍으로 통합된 이 회사는 지난해 우리나라에서 열린 나노코리아 행사에 참가했다가 우연히 KERI의 기술을 접하고 먼저 공동회사 설립을 제안한 바 있다.
MOU를 위해 방한한 마크 얀셀 비스텍 최고 재무책임자는 “비스텍의 E-빔 노하우와 KERI의 이번 자기부상 방식의 원통형 인쇄전자 기술을 결합하면, 세계 산업계의 숙원인 대면적 나노패턴 인쇄기술의 발전에 크게 기여할 수 있을 것”이라며 “특히 LCD 분야에서만도 상업적으로 엄청난 가치가 있어 비스텍에게도 분명 큰 기회라 생각한다”고 말했다.
한편, KERI는 지난 31일 서울에서 ‘원통형 나노금형 제작기술’에 관한 성과 발표회를 갖고 반도체 회로나 차세대 디스플레이, 태양전지 등의 대면적 나노·마이크로 패턴을 인쇄할 수 있는 원통형 나노노광 장비와 플라즈마 식각장비 등 일괄 공정기술을 발표했다.
창원=임동식기자 dslim@etnews.co.kr