반도체 및 태양전지 장비업체인 테스(대표 주숭일)는 하이닉스로부터 반도체용 HF(불화수소) 건식 식각장비를 수주했다고 16일 밝혔다.
불화수소 건식 식각장비는 일본의 TEL만이 양산해왔으며 국내 기업이 이를 판매한 것은 이번이 처음이다. 계약금액은 35억 2000만원으로 개발에 성공한 지 1년여만에 수주에 성공했다.
이 장비는 40나노 이하 공정에 적용되며, 산화막 식각(Etching) 기능뿐 아니라 자연산화막 제거기능도 구현시킬 수 있어 공정이 미세화될수록 폭 넓게 대응이 가능하다.
테스의 한 관계자는 “HF 건식 식각장비(장비명:CUBIC300)는 기존 장비로 어려운 콘택홀의 세정이 가능해 반도체의 고집적화, 고성능화에 따른 신뢰도 및 수율 향상에 크게 기여할 수 있는 장비”라고 밝혔다. 하이닉스는 테스에게 공정기술과 성능검증 등의 지원을 한 것으로 알려졌다.
특히 이 제품이 과거 HF용액을 이용한 습식식각 장비에 비해 약액(세정액) 소모가 없어 친환경적이며, 원거리 플라즈마(Remote Plasma)를 이용한 식각장비보다 플라즈마 손상을 최소화할 수 있는 장점을 갖췄다.
주숭일 사장은 “기존 화학기상증착장비에서 건식식각장비로 장비 다변화에 성공한 것은 회사의 경쟁력 향상뿐 아니라 반도체 장비 국산화에 기여했다는 데 의미가 있다”며 “고객들의 공정미세화 설비투자 추세로 향후 이 제품에 대한 수요가 지속적으로 발생할 것”이라고 말했다.
유형준기자 hjyoo@etnews.co.kr