한국과학기술연구원(KIST)은 장호원 박사와, 미국 위스콘신대 엄창범 교수 연구팀이 산화물 반도체 상용화를 위한 원천 기술을 개발했다고 24일 밝혔다.
연구팀은, 전기가 통하지 않는 산화물 기판과 박막 사이에 또 다른 산화물을 삽입해 전기 전도성을 높이는 데 성공했다고 설명했다.
이는 기존 실리콘 반도체에서는 불가능했던 기술로, 실리콘으로 구현할 수 없는 금속-절연체 전이와 초전도성, 자성 등을 보유해 미래형 신개념 산화물 반도체 실현의 원천 기술로 평가된다.
장 박사는 “개발된 원자층 제어 산화물 반도체 제조 기술은 향후 초고속 슈퍼컴퓨터의 중앙처리장치, 고밀도 비휘발성 메모리, 초고감도 센서 등 차세대 신개념 전자소자 개발의 핵심 기술로 자리매김할 수 있을 것으로 기대된다”고 말했다.
이번 연구 내용은 과학저널 ‘사이언스’에 지난달 18일자 논문으로 발표됐다.
윤대원기자 yun1972@etnews.co.kr