국내 연구진이 크기가 10억분의 1m 정도인 나노물질이 일정한 패턴을 갖도록 하는 공정과정을 개발했다. 성능이 뛰어난 나노소자를 대량생산해 상용화하는 데 기여할 전망이다.
교육과학기술부와 한국연구재단은 한국과학기술원(KAIST) 고승환 교수 연구팀이 한 번 공정으로 나노물질을 원하는 위치에 원하는 모양으로 본뜰 수 있는 새로운 공정기술을 개발했다고 29일 밝혔다.
기존 공정은 높은 온도에서 폭발성 또는 독성이 있는 위험한 기체를 사용했다. 공정 단계가 많아 비용이 많이 들고 환경 문제도 야기할 수 있는 문제점이 있었다.
고 교수팀은 잉크젯 공정을 이용해 나노물질의 씨앗층 패턴을 기판 위에 인쇄하듯 만들고 100도 이하의 저온 용액 환경에서 나노와이어를 성장시키는 방법을 개발해 문제를 해결했다. 이를 통해 한 번의 공정으로 플라스틱과 같은 저렴한 기판에 나노물질을 합성하고 원하는 모양대로 본뜰 수 있다.
고 교수는 “비교적 간단한 장비와 방법으로 저온에서 나노물질을 원하는 기판과 위치에 직접 형성할 수 있는 기술”이라며 “성능이 뛰어난 나노소자의 대량생산과 상용화에 꼭 필요한 핵심기술이 될 것”이라고 말했다.
연구결과는 물리화학 분야 학술지 `랭뮤어(Langmuir)` 3월 14일 표지논문으로 소개됐다.
윤대원기자 yun1972@etnews.com