한·미 특허청이 특허권 분쟁 예방을 위해 특허 심사 품질 표준화 지표 공동 개발에 나선다.
특허청은 미국 워싱턴을 방문 중인 김호원 청장이 데이비드 카포스 미 지식재산차관 겸 특허청장, 랜달 레이더 연방순회항소법원(CAFC)법원장과 연쇄 회동을 갖고, 양국 간 특허 협력을 강화하기로 했다고 2일 밝혔다.
양국 특허청은 한·미 자유무역협정(FTA)을 통한 교역 증가를 위해 특허 분야 협력이 중요하다는데 인식을 같이 하고 심사공조, 교육자원 공동활용, 전문가 양성 등 특허분쟁 예방을 위한 노력을 공동으로 전개해 나가기로 합의했다.
이를 위해 양 청은 우선 특허심사 오류로 인해 잘못 생겨난 특허권이 특허분쟁의 잠재적 요인이라는 공동 인식을 바탕으로 세계 최초로 한·미 특허청간 심사품질 표준화에 관한 공동 연구를 실시하기로 했다.
또 양국에 공통으로 제출되는 특허출원에 대한 심사 결과를 상호 활용하는 전략적 심사처리(SHARE)프로그램을 확대 시행하는 한편 미국이 유럽, 일본 출원인을 대상으로 추진 중인 제2세대 심사협력 프로그램인 `PPH 2.0`에 한국 특허청도 참여하기로 합의했다.
이어 김호원 특허청장은 레이더 CAFC 법원장과 회담에서 내년에 한국에서 한·미 특허당국이 공동 개최하는 `한·미 특허 판사 및 전문가 회의` 준비를 위해 상호 협력하기로 했다.
또 한국 기업이 미국 내 특허 분쟁 때문에 겪는 애로와 대미 시장 진출의 어려움을 전달하고, 특허권이 정당하게 행사될 수 있는 환경 조성을 위해 법원 차원에서 노력해줄 것을 요청했다.
한편, 김 청장은 미국 방문 기간 동안 재미 한인 특허 전문가 및 기업인들과 간담회를 갖고 이들을 격려하는 한편 재미 한인들의 전문 역량을 국내 기업들이 특허분쟁 예방 및 대응에 활용할 수 있도록 네트워크를 강화하기로 했다.
대전=신선미기자 smshin@etnews.com