“무어의 법칙은 최소 앞으로 10년까지 유효합니다. 인텔은 10년 안에 5나노미터(㎚) 공정기술을 구현할 것으로 확신합니다.”
12일(현지시각) 마크 보어 인텔 시니어 펠로(수석 부사장급)는 무어의 법칙이 여전히 건재하며 인텔의 집적회로 기술이 충분히 입증해낼 수 있다면서 이렇게 설명했다.
무어의 법칙은 인텔 공동 설립자인 고든 무어가 주창한 개념으로 컴퓨터 회로에 집적하는 트랜지스터의 개수가 2년마다 두 배로 증가하고 가격은 동일하다는 뜻이다. 40년된 이 이론이 붕괴했다는 지적도 있지만 마크 보어 시니어 펠로는 자신감이 넘쳤다.
마크 보어는 “무어의 법칙에 따라 인텔은 혁신을 거듭해 왔으며 3세대 코어 프로세서 역시 성능과 전력 효율을 20% 이상 높이면서 수율은 올라갔다”고 말했다. 그는 “아키텍처 변경이 30% 비용 절감 효과가 있다면 공정기술 미세화는 60%를 줄일 수 있다”며 “노광장비 투자 비용이 너무 커 고민이 없는 것은 아니지만 수율과 양산이 안정적이며 소재 연구로 보완하고 있다”고 설명했다.
인텔은 시스템반도체 공정기술에서 `최초`의 역사를 써왔다. 이번 4세대 코어 프로세서를 개발한 기술로 알려진 22나노미터(㎚) 공정 역시 인텔이 업계 최초로 성공했다. 이 회사는 내년 14나노 공정까지 구현할 예정이다. 2015년을 전후해 10나노, 향후 10년 내 7나노 및 5나노 수준까지 각각 발전시킬 계획이다. 마크 보어는 “개발 중인 14㎚ 공정을 구현할 팹 투자를 미국 오리건, 애리조나, 아일랜드에 집행할 예정”이라고 구체적인 청사진을 제시했다.
샌프란시스코(미국)=
정미나기자 mina@etnews.com