국내 연구진이 원자 단위 미세 조절기술(원자층 증착법)로 가시광 흡수율을 네 배 이상 높인 3㎚ 두께 광소재를 개발했다.
미래창조과학부와 한국연구재단은 송정규 연세대 연구원(박사과정생·제1저자)이 기초연구사업(중견연구자지원) 및 글로벌프론티어사업 지원을 받아 이 같은 연구결과를 냈다고 18일 밝혔다.
이 연구결과는 네이처 커뮤니케이션스(Nature communications) 7월 23일자에 게재됐다.
연구팀은 원자층 증착법(ALD)을 이용해 금속 원료와 반응 가스를 교차 주입하는 방식으로 박막을 반복 성장시켰다. 금속은 텅스텐과 몰리브덴을 혼합해 만들었다.
이 같은 방식으로 3㎚ 두께 광소재를 만든 결과 붉은색에서 초록색까지 넓은 영역대 가시광선 빛을 흡수하는 것을 확인했다. 또 기존 전이금속 이황화 초박막 반도체 대비 같은 두께에서 네 배 향상된 광 흡수율을 나타냈다.
송정규 연구원은 “초박막 소재를 원자 단위로 미세 조절하는 기술은 소재 물성을 자유자재로 컨트롤할 수 있는 원천 기술이기에 의미 있는 성과”라고 말했다.
대전=박희범기자 hbpark@etnews.com